[发明专利]用于多等离子处理腔的射频系统在审
| 申请号： | 201811547966.1 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109659217A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 林英浩;周仁 | 申请（专利权）人： | 沈阳拓荆科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 陈福昌 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子组件 可变 匹配网络 等离子处理腔 射频系统 输出端 复数 匹配 等离子工艺 射频讯号 一端连接 接地 处理腔 电连接 输入端 电极 电耦 腔体 | ||
1.用于多等离子处理腔的射频系统，包括：
一射频电源，产生一或多个射频讯号；
一匹配网络，与该射频电源电耦接以接收并处理所述一或多个射频讯号；及
复数个匹配调节单元，与该匹配网络电耦接以接收并调节经处理的一或多个射频讯号，其特征在于：
该复数个匹配调节单元的每一者包含一第一可变电子组件及一第二可变电子组件，其中该第一可变电子组件连接该匹配网络的一输出端及连接至一处理腔中一电极的一输入端，该第二可变电子组件的一端电连接至该第一可变电子组件。
2.按照权利要求1所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该第二可变电子组件的另一端连接该腔体、该匹配网络或接地。
3.按照权利要求2所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该第一可变电子组件为一第一可变电容，该第二可变电子组件为一第二可变电容。
4.按照权利要求2所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该第一可变电子组件为一可变电容，该第二可变电子组件为一可变电感。
5.按照权利要求2所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该第一可变电容或该第二可变电容的电容值介于50pF至5nF的范围。
6.按照权利要求4所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该复数个匹配调节单元的每一者还具有多个开关分别连接及控制该可变电容及该可变电感的导通。
7.按照权利要求1所述用于多等离子处理腔的射频系统，其特征在于：该复数个匹配调节单元的任一者的第一和第二可变电子组件的值不同于该复数个匹配调节单元中的另一者，藉此保持所述多等离子处理腔中的功率一致。
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