[发明专利]抗菌敷料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种抗菌敷料，其特征在于，包括：

敷料载体，为水溶性高分子形成的微纳米纤维结构；和，

纳米过氧化银，分布在所述敷料载体内部和/或表面。

2.根据权利要求1所述的抗菌敷料，其特征在于，所述纳米过氧化银在所述抗菌敷料中的固含量为0.05-12wt％，优选为1-10wt％；

和/或，所述纳米过氧化银为片状结构，优选地，所述纳米过氧化银的厚度为1-20nm，长度或宽度均独立地为500nm-2μm。

3.根据权利要求1或2所述的抗菌敷料，其特征在于，所述水溶性高分子包括聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚甲基纤维素、聚丙烯酸、聚氧化乙烯、聚乳酸、壳聚糖或明胶中的任意一种或至少两种的组合，优选为聚乙烯醇。

4.根据权利要求1或2所述的抗菌敷料，其特征在于，所述敷料载体形成的微纳米纤维结构的直径为100nm-1μm，优选为150-900nm。

5.权利要求1-4任意一项所述的抗菌敷料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将纳米过氧化银与水溶性高分子形成的混合溶液进行静电纺丝，得到抗菌敷料。

6.根据权利要求5所述的抗菌敷料的制备方法，其特征在于，纳米过氧化银与水溶性高分子形成的混合溶液中还添加有增稠剂溶液，所述增稠剂溶液的增稠剂占所述增稠剂溶液的质量体积比为0.5-2％，优选为1-1.5％；

优选地，所述增稠剂包括羧甲基纤维素钠、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、海藻酸钠、聚乙烯醇、聚丙烯酸或聚氧化乙烯中的任意一种或者至少两种的组合。

7.根据权利要求5所述的抗菌敷料的制备方法，其特征在于，静电纺丝的工艺参数包括：纺丝电压为12-18kV；和/或，混合溶液流速为0.5-1.5mL/min；和/或，接收距离为5-15cm。

8.根据权利要求5-7任意一项所述的抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述纳米过氧化银的制备方法包括以下步骤：

将过硫酸盐、强碱、表面活性剂和无机可溶性银盐混合并进行沉淀反应，将反应得到的沉淀物分离，得到纳米过氧化银。

9.根据权利要求8所述的抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述过硫酸盐包括过硫酸钾和/或过硫酸钠；

和/或，所述无机可溶性银盐包括硝酸银和/或醋酸银；

和/或，所述强碱包括氢氧化钠和/或氢氧化钾；

和/或，所述表面活性剂为离子表面活性剂，优选地，所述离子表面活性剂为烷基磺酸盐或烷基硫酸盐，优选为十二烷基硫酸钠、十四烷基磺酸钠、十六烷基磺酸钠或十二烷基苯磺酸钠中的任意一种或至少两种的组合。

10.权利要求1-4任意一项所述的抗菌敷料或采用权利要求5-9任意一项所述的抗菌敷料的制备方法制得的抗菌敷料在生物医药领域中的应用。