[发明专利]一种高粘接性聚酰亚胺薄膜、其制备方法及柔性覆铜板

权利要求书

1.一种高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，分子骨架中包括含有酚羟基的芳香族二元胺残基及不含有酚羟基的芳香族二元胺残基。

2.根据权利要求1所述的高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，其结构式如下所示：

其中，R₁为来自芳香族四羧酸二酐的残基、G₁为来自不含有酚羟基的芳香族二元胺的残基、G₂为来自含有酚羟基的芳香族二元胺的残基；m及n均为1～500的整数，且n:m为0.005～0.25:1。

3.根据权利要求2所述的高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述n:m为0.005～0.05:1。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述含有酚羟基的芳香族二元胺为2,3-二氨基苯酚、2,4-二氨基苯酚、3,5-二氨基-4'-羟基-二苯基醚、3,3'-二羟基联苯胺中的一种或几种。

5.根据权利要求1-3中任意一项所述高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述不含有酚羟基的芳香族二元胺为对苯二胺、间苯二胺、4,4'-二氨基二苯基醚、4,4'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基砜、1,4-双(胺苯氧基)苯、1,5-二氨基萘中的一种或几种。

6.根据权利要求1-3中任意一项所述高粘接性聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述芳香族四羧酸二酐为均苯四酸二酐、3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐、4,4'-联苯醚二酐、3,3',4,4'-二苯酮四酸二酐、2,2-二苯基丙烷-3,4,3',4'-四酸二酐、1,4,5,8-萘四甲酸二酐、1,4-二苯氧基苯-3,3',4,4'-四甲酸二酐、4,4'-(六氟异丙撑)二邻苯二甲酸酐中的一种或几种。

7.一种如权利要求1-6中任意一项所述高粘接性聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：

(1)将含有酚羟基的芳香族二元胺及不含有酚羟基的芳香族二元胺溶解在极性有机溶剂中，加入芳香族四羧酸二酐溶解完全后，获得聚酰胺酸溶液；

(2)将所述聚酰胺酸溶液涂布在基板上；

(3)在150-200℃下干燥10-30分钟除去部分溶剂；

(4)在30分钟内升温至350-400℃干燥30-45分钟除去剩余溶剂，制得高粘接性聚酰亚胺薄膜。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述含有酚羟基的芳香族权二元胺残基与不含有酚羟基的芳香族二元胺的摩尔比为0.005～0.25:1。

9.如权利要求7或8所述的制备方法，其特征在于，所述聚酰胺酸溶液的固含量为15-30wt％，所述芳香族四羧酸二酐与二元胺的摩尔比为1-1.1：1。

10.一种柔性覆铜板，其特征在于，将权利要求1-9中任意一项所述的聚酰亚胺薄膜、环氧类胶黏剂、铜箔，在260-300℃、15-25MPa下压合15-30min而成。