[发明专利]一种充电电流线性度补偿的电路及其方法有效

专利信息
申请号: 201811540992.1 申请日: 2018-12-17
公开(公告)号: CN109617162B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 李杰;石传波 申请(专利权)人: 思瑞浦微电子科技(苏州)股份有限公司
主分类号: H02J7/00 分类号: H02J7/00
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陈忠辉
地址: 215123 江苏省苏州市工业*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 充电 电流 线性 补偿 电路 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种充电电流线性度补偿的电路,接设于充电电路及其充电电流设置电阻RPROG所在支路中,所述充电电路由NMOS管M3、M2、M1,运放amp1,电荷泵,恒流环路,电阻R1、R2、RPROG相接组成,其中NMOS管M3的源极接入Vcc,电荷泵输出电压Vcp接入NMOS管M3的栅极,NMOS管M1、M2与NMOS管M3共漏相接,并形成两条电流支路,其中每一条支路均设有串联接地的电阻R1、R2,运放amp1的输入端分别接入两条支路,对应NMOS管M1的支路,电阻R2的另一端连接NMOS管的源极VBAT,对应NMOS管M2的支路,电阻R2的另一端连接NMOS管的源极形成端电压VA,同支路下NMOS管的源极通过PMOS管与电阻RPROG相接,CC运放和I0驱动支路接入电阻RPROG的高压端和NMOS管M1、M2的栅极之间,其特征在于:所述充电电路在电阻RPROG的端电压处接设有由运放amp2,电阻R3、R4,PMOS管M10、M11和NMOS管M4所组成的过流保护电路,其中电阻R3串接于RPROG所在支路中,电阻R3的高压端接运放amp2的反相输入端,电阻R3的低压端通过电阻R4接入运放amp2的同相输入端,运放amp2的输出端接入PMOS管M10、M11的栅极,且PMOS管M10的漏极反馈接入运放amp2的同相输入端;

且线性度补偿的电路基于过流保护电路而设且由电流源I2,NMOS管M5、M6、M7,PMOS管M8、M9相接构成,其中电流源I2的高压端和PMOS管M8、M9、M10、M11共同接于Vdd,NMOS管M4、M5、M6、M7共源接地,且NMOS管M4、M5栅极相连,NMOS管M4和PMOS管M11漏极相连;电流源I2的低压端与NMOS管M5、M6漏极相连,NMOS管M6、M7栅极相连接;PMOS管M8、M9栅极相连;PMOS管M8、NMOS管M7漏极相连;充电电路中运放amp1反相输入端接入串联电阻对R0、R01和电阻R2之间,PMOS管M9漏极补偿电流I1接入串联电阻对中的接点处。

2.根据权利要求1所述充电电流线性度补偿的电路,其特征在于:所述补偿电流I1的值可变,且根据不同电阻RPROG阻值设有两个以上阀值。

3.一种充电电流线性度的补偿方法,基于权利要求1中所述充电电路实现,其特征在于包括步骤:

引入补偿电路:在充电电路及其充电电流设置电阻RPROG所在支路中接设由运放amp2,电阻R3、R4,PMOS管M10、M11和NMOS管M4所组成的过流保护电路,其中电阻R3串接于RPROG所在支路中,电阻R3的高压端接运放amp2的反相输入端,电阻R3的低压端通过电阻R4接入运放amp2的同相输入端,运放amp2的输出端接入PMOS管M10、M11的栅极,且PMOS管M10的漏极反馈接入运放amp2的同相输入端;并基于PMOS管M10、M11接设由电流源I2,NMOS管M5、M6、M7,PMOS管M8、M9相接构成的补偿电路,其中电流源I2的高压端和PMOS管M8、M9、M10、M11共同接于Vdd,NMOS管M4、M5、M6、M7共源接地,且NMOS管M4、M5栅极相连,NMOS管M4和PMOS管M11漏极相连;电流源I2的低压端与NMOS管M5、M6漏极相连,NMOS管M6、M7栅极相连接;PMOS管M8、M9栅极相连;PMOS管M8、NMOS管M7漏极相连;将充电电路中运放amp1反相输入端接入串联电阻对R0、R01和电阻R2之间,且补偿电路的PMOS管M9的漏极的补偿电流I1接入串联电阻对中的接点处;

调整线性度:引入补偿电流I1推导得补偿电压,调整补偿电流I1的值,优化充电电流的线性度。

4.根据权利要求3所述充电电流线性度的补偿方法,其特征在于:所述补偿电流I1根据不同的RPROG阻值设置两个以上阀值,以对充电电流分段线性化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于思瑞浦微电子科技(苏州)股份有限公司,未经思瑞浦微电子科技(苏州)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811540992.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top