[发明专利]一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置

说明书

本发明公开了一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置，包括引入电极，所述引入电极外套接有绝缘套并穿过真空腔体壁伸入真空腔体内，引入电极与真空腔体壁之间密封连接，引入电极在大气侧通过电缆连接偏压电源，在真空腔体内靠近引入电极一侧的腔体挡板上设有孔洞，引入电极在真空腔体内一端连接有弹片，弹片连接有滑轮，弹片及滑轮穿过腔体挡板上的孔洞并可与基片框架过盈接触。本发明的偏压引入装置引入电极通过弹片和滑轮与基片框架过盈接触，弹片施加一定的力使滑轮完全与基片框架接触，滑轮与基片框架之间为面接触，同时不影响基片框架的往返运动，解决了偏压引入装置与基片框架接触不良和接触不到的问题。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备领域，具体为一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置。

背景技术

在真空镀膜中，偏压的主要作用是提高真空等离子体内带电粒子的能量，轰击清洗工件表面，使工件表面经受高能粒子撞击后得到崭新的表层，从而提高后续沉积膜层的结合力。目前单体设备上使用偏压比较普遍，而在连续镀膜设备上面目前还没有普及。传统单体设备上面的引入装置主要是处于静止状态，外部大气一端连接偏压电源，内部真空端直接于工件框架连接，处于固定状态。为了改善膜层质量可通过偏压引入装置运用于连续生产线上，而连续镀膜设备上由于工件框架是多个独立不连接的状态，相对于偏压引入装置是处于运动状态，这样在每个单独框架接触的时候难免会有接触不良或接触不到的情况，基片框架在运动过程中容易出现偏压引入接触不良，打火，短路等现象。

发明内容

本发明的目的在意提供一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置，解决在连续镀膜生产线中基片框架运动过程中与偏压引入装置接触不良或接触不到的问题。

本发明采用的技术方案如下：一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置，包括引入电极，所述引入电极外套接有绝缘套并穿过真空腔体壁伸入真空腔体内，引入电极与真空腔体壁之间密封连接，引入电极在大气侧通过电缆连接偏压电源，在真空腔体内靠近引入电极一侧的腔体挡板上设有孔洞，引入电极在真空腔体内一端连接有弹片，弹片连接有滑轮，弹片及滑轮穿过腔体挡板上的孔洞并可与基片框架过盈接触。

进一步地，在引入电极与电缆连接处设有保护罩。

本发明的偏压引入装置通过电缆把偏压引入电极与电源连接起来，引入电极外套接有绝缘套并穿过真空腔体壁伸入真空腔体内，引入电极通过弹片和滑轮与基片框架过盈接触，弹片施加一定的力使滑轮完全与基片框架接触，滑轮与基片框架之间为面接触，同时不影响基片框架的往返运动，解决了偏压引入装置与基片框架接触不良和接触不到的问题。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。

如图1所示，本发明的一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置，包括引入电极3，所述引入电极3外套接有绝缘套4并穿过真空腔体壁7伸入真空腔体内，引入电极3与真空腔体壁7之间密封连接，引入电极3在大气侧通过电缆1连接偏压电源，在引入电极3与电缆1连接处设有保护罩2，在真空腔体内靠近引入电极一侧设有腔体挡板8，引入电极3在真空腔体内一端连接有弹片5，弹片5连接有滑轮6，滑轮6穿过腔体挡板8并可与基片框架9过盈接触。

本发明的偏压引入装置通过电缆把偏压引入电极与电源连接起来，引入电极外套接有绝缘套并穿过真空腔体壁伸入真空腔体内，引入电极通过弹片和滑轮与基片框架过盈接触，弹片施加一定的力使滑轮完全与基片框架接触，滑轮与基片框架之间为面接触，同时不影响基片框架的往返运动。

在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本发明所属领域的技术人员将会想到本发明的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本发明不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。