[发明专利]一种小畸变高像质折反光学系统在审
| 申请号： | 201811535582.8 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109557649A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 解来运;李巧玲;吴崔罡;王晓伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 董娜 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 次镜 主反射镜 透射 校正 反射区 镜筒 折反光学系统 反射膜 高像质 通光孔 透射区 小畸变 像面 反射 折反式光学系统 球面反射镜 光束穿过 光学系统 支撑结构 反射镜 球面镜 杂散光 光阑 力差 内镜 适配 弯向 物面 成像 会聚 | ||
1.一种小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：包括镜筒、以及从左至右同轴设置在镜筒内的次镜(2)、透射校正组(3)和主反射镜(1)；所述次镜(2)的外径与镜筒内镜相适配；主反射镜(1)上设置光阑，次镜(2)的左侧为物面，主反射镜(1)的右侧为像面；
所述主反射镜(1)为中间开设通光孔的球面反射镜，所述次镜(2)为弯向物面的球面镜；
次镜(2)靠近主反射镜(1)的表面中部镀有反射膜，形成反射区；次镜(2)镀有反射膜以外的其他区域为透射区；
来自物面的光束经过次镜(2)的透射区透射后进入主反射镜(1)；光束经主反射镜(1)反射后到达次镜(2)的反射区，并经反射区反射进入透射校正组(3)，
经透射校正组(3)校正后的光束穿过通光孔在像面成像。
2.根据权利要求1或所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：所述透射校正组(3)包括从左至右依次设置的光焦度为正的第一透镜(31)、光焦度为负的第二透镜(32)、光焦度为正的第三透镜(33)。
3.根据权利要求2所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：所述反射膜为高反射膜，所述透射区镀有高减反膜。
4.根据权利要求3所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：所述次镜(2)的左面为球面，其右面为椭球面；
所述主反射镜(1)为球面镜；
所述第一透镜(31)、第二透镜(32)、第三透镜(33)的表面均为球面。
5.根据权利要求4所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：
所述次镜(2)的左面曲率半径为-235.75mm,右面曲率半径为-241.066mm；
所述主反射镜(1)的左面曲率半径为-531.45mm；
所述第一透镜(31)左面曲率半径为601.898mm，右面曲率半径为-65.854mm；；
所述第二透镜(32)左面曲率半径为-43.895mm，右面曲率半径为36.311mm；
所述第三透镜(33)左面曲率半径为36.5mm，右面曲率半径为203.64mm。
6.根据权利要求5所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：
所述次镜(2)的厚度为10mm；所述主反射镜(1)的厚度为10mm；
所述第一透镜(31)5.9mm；
所述第二透镜(32)3.2mm；
所述第三透镜(33)9.65mm。
7.根据权利要求5所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：
所述次镜(2)右面到主反射镜(1)左面的距离为190mm；
所述次镜(2)右面到第一透镜(31)左面的距离为140mm；
所述第一透镜(31)右面到第二透镜(32)左面的距离为10.6mm；
所述第二透镜(32)右面到第三透镜(33)左面的距离为10.34mm；
所述第三透镜(33)右面到主反射镜(1)左面的距离为40.28mm。
8.根据权利要求7所述的小畸变高像质折反光学系统，其特征在于：所述第二透镜(32)采用反常色散材料；
所述主反射镜(1)采用石英、K9或碳化硅材料。
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