[发明专利]一种相变可控的全无机钙钛矿薄膜制备方法及器件应用有效
| 申请号: | 201811532568.2 | 申请日: | 2018-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN109355638B | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
| 发明(设计)人: | 徐伟龙;蔡小红;陈海悦;郑敏;肖进;赵宇;卞维柏 | 申请(专利权)人: | 常州工学院 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/52;H01L31/032;H01L31/09;H01L31/18 |
| 代理公司: | 常州西创专利代理事务所(普通合伙) 32472 | 代理人: | 武政 |
| 地址: | 213032 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 相变 可控 无机 钙钛矿 薄膜 制备 方法 器件 应用 | ||
1.一种相变可控的全无机钙钛矿薄膜制备方法,其特征在于,所述方法的具体步骤如下:
(1)将先驱物溴化铅和溴化铯分别置于气相沉积装置内,将衬底置于沉积区,并对整个装置抽真空;
(2)向气相沉积装置内通入惰性气体;
(3)设定沉积温度和沉积时间,沉积温度选自500-800℃,不同沉积温度下,钙钛矿薄膜的成分和晶型不同;
其中,在加热时间60min,保持时间40min的情况下,当沉积温度为500℃时,得到的钙钛矿基本为CsPb2Br5相;当沉积温度为600℃、700℃时,得到的钙钛矿为CsPb2Br5-CsPbBr3双相结构,并随着温度升高CsPbBr3相增多;当沉积温度为750℃时,得到的钙钛矿基本为CsPbBr3相;当衬底温度为800℃时 ,钙钛矿薄膜降解。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,抽真空至100Pa,并重复3次,以去除多余的氧气和水蒸气。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述衬底材料为硅。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,惰性气体为氩气,流量为80sccm。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中加热程序为:从室温加热到设定的温度时间为60min,然后保持时间为40min,停止加热,冷却到室温。
6.一种钙钛矿光电器件制备方法,其特征在于,所述器件包括衬底和钙钛矿薄膜,所述衬底为叉指电极,所述钙钛矿薄膜通过如权利要求1-5中任意一项所述的制备方法制备。
7.根据权利要求6所述的钙钛矿光电器件制备方法,其特征在于,所述叉指电极为硅衬底,电极材料为金。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





