[发明专利]一种制备顺式三氟甲基苯乙烯类化合物的方法

说明书

本发明公开了一种制备顺式三氟甲基苯乙烯类化合物的方法，属于有机合成领域。本发明方法利用高价态铜三氟甲基配合物，与苯乙炔类化合物、硅烷进行反应得到三氟甲基取代的苯乙烯类化合物。采用本发明方法制备含三氟甲基苯乙烯类化合物，可以有效的提高区域选择性和立体选择性，得到β位三氟甲基取代的顺式苯乙烯类化合物，选择性高于90％，异构体生成较少，产率较高。本发明方法具有绿色安全、成本低、高效、工艺简单等优点，工业前景广阔，本发明方法的产物在药物、农药、高分子材料合成等领域有重要的应用价值。

技术领域

本发明涉及一种制备顺式三氟甲基苯乙烯类化合物的方法，属于有机合成领域。

背景技术

在CF₃基团中，由于氟原子的电负性大，原子半径小等特点，使得CF₃基团中的C-F键十分牢固，同时也使得CF₃基团具有强吸电子性。因此，将CF₃基团引入到有机分子中可以有效地改善有机分子的偶极距、极性、稳定性以及脂溶性。正因如此，含有CF₃基团的化合物在农药、医药、材料、染料等领域得到了广泛的应用。烯烃是合成许多生物活性分子的重要结构单元；所以，合成并制备三氟甲基化烯烃具有十分重要和普遍的意义。

因此为构建乙烯基-CF₃结构单元，科研工作者做出了巨大的努力。其中，一些代表性的方法，包括卤代烯烃的交叉偶联、乙烯基硼酸的三氟甲基化；通过脱羧形成乙烯基-CF₃键和烯烃C-H键的直接三氟甲基化。除了这些外，有些是通过先制备化合物Ar-C≡C-CF₃，从而进一步反应得到含CF₃基团的烯烃类化合物，还有就是利用膦叶立德与羰基化合物的缩合以及烯烃的复分解反应来获得目标产物。然而，由于三氟甲基试剂的合成复杂、有限的底物范围、操作不易、原子利用率低，以及区域和立体选择性差等问题，使得这些结果都不是十分理想。

炔烃的直接H-CF₃化是构建乙烯基-CF₃键最经济和最简便的方法之一。然而，目前炔烃H-CF₃化的主要问题是产物的立体选择性不好，通常得到的是Z式和E式烯烃的混合物，选择性的合成Z式构型的乙烯基-CF₃化合物的例子十分罕见，至今为止很少被报道。因此，构建一种在苯乙烯类化合物中高效和高选择性地引入CF₃的方法是有迫切需求的。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提供一种高效、立体选择性地制备含三氟甲基苯乙烯化合物及其衍生物的方法，其产物特征是苯乙烯β位上含有一个三氟甲基基团，且三氟甲基基团与苯环处于顺式的构型。该方法属于一锅法，具有成本低、产率高、操作简单等特点。考虑到乙烯类化合物的应用广泛和庞大的市场，本发明方法有广阔的实际应用价值和巨大的市场空间，同时也为制备各种含乙烯基-CF₃的药物中间体和高分子材料提供了可能。

本发明的第一个目的是提供一种含三氟甲基苯乙烯类化合物的制备方法，所述方法是利用铜三氟甲基配合物作为三氟甲基源，与苯乙炔类化合物和硅烷发生反应，得到三氟甲基顺式取代的苯乙烯类化合物；所述铜三氟甲基配合物的化学结构式如式(I)所示：

在本发明的一种实施方式中，配体Ligand包括菲啰啉、吡啶、联吡啶及其取代衍生物。

在本发明的一种实施方式中，所述铜三氟甲基配合物包括式(I-a)、式(I-b)、式(I-c)，

其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆分别独立的选自烷基、卤代烷基、环烷基、卤代环烷基、链烯基、卤代链烯基、芳香基。