[发明专利]一种延长抛光布使用寿命的处理方法有效

专利信息
申请号: 201811529111.6 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN111318964B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 林霖;史训达;李彦君;刘云霞;陈克强;杨少昆;周莹莹;李奇 申请(专利权)人: 有研半导体材料有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 101300 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 延长 抛光 使用寿命 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)刷盘刷布:将刷盘放置在贴好抛光布的抛光机盘面上,用抛光机的压力头压住刷盘,压力范围为60~200kg,抛光机大盘转速为15~60rpm,刷盘转速为15~60rpm,刷盘与抛光机大盘旋转方向相同,抛光布上超纯水流量为1~20L/min,刷盘刷布的频率为抛光机每运行1~5个批次刷布一次,每次刷布时间为10s~5min;

(2)高压水冲洗:用高压水冲洗抛光布表面,高压水压强为10~20MPa,所用高压水为超纯水,高压水喷口距离抛光布5~50mm,用高压水把整张抛光布冲洗一遍;高压水冲洗抛光布的频率为抛光机每运行5~10个批次冲洗一次;

(3)修整环研磨:将修整环放置在抛光布上,用抛光机的压力头压住修整环,压力范围为60~100kg,抛光机大盘转速为15~60rpm,修整环转速为15~60rpm,修整环与抛光机大盘旋转方向相同,抛光布上超纯水流量为1~20L/min,修整环研磨抛光布的时间为10s~5min;然后使修整环与抛光机大盘旋转方向相反,压力范围、转速范围和超纯水流量范围都不变,继续研磨抛光布10s~5min;修整环研磨的频率为抛光机每运行20~30个批次进行一次。

2.根据权利要求1所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,所述刷盘的直径与抛光机压力头的直径相同,刷盘的刷毛材质为尼龙。

3.根据权利要求2所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,每根刷毛直径为0.5~1.5mm,刷毛露出刷盘的长度为5~20mm。

4.根据权利要求1所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,所述步骤(2)单独进行,或者在进行步骤(2)时,同时进行步骤(1)的操作。

5.根据权利要求1所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,所述修整环的直径与抛光机压力头的直径相同,修整环研磨面上的研磨颗粒的材质为金刚石颗粒、碳化硅颗粒或氧化铝颗粒,研磨颗粒的粒径为100~400目。

6.根据权利要求1所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,所述步骤(3)单独进行,或者在进行步骤(3)时,同时进行步骤(1)和步骤(2)的操作。

7.根据权利要求1所述的延长抛光布使用寿命的处理方法,其特征在于,所述抛光机为单面抛光机。

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