[发明专利]一种覆铜板用介质布的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811525635.8 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109629243A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 程文云 申请(专利权)人: 广德瓯科达电子有限公司
主分类号: D06N3/04 分类号: D06N3/04;D06N3/00;D06M15/53;D06M15/256;D06M13/148;D06C15/10
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 242000 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 玻纤布 覆铜板 过滤液 浸渍 微弱电流 制备 加热 浸润 外电场作用 带电粒子 发生移动 介质损耗 绝缘电阻 布表面 浸润液 柔软度 玻纤 甩干 蒸汽 发热 剥离 概率 制作
【说明书】:

发明涉及覆铜板用介质布制作技术领域,具体涉及一种覆铜板用介质布的制备方法,包括将玻纤布加热并浸润、制过滤液I、制过滤液II、将玻纤布甩干、将玻纤布置于过滤液I中,浸渍。本发明通过步骤S5、S6、S7使制得的介质布表面绝缘电阻得到提升,当介质布受到外电场作用下,降低其上带电粒子发生移动引起微弱电流的概率,由于微弱电流会导致介质布内部发热而引起损耗,从而减少介质布的介质损耗,步骤S1中通过蒸汽对玻纤布加热,再通过浸润液浸润玻纤布,使玻纤布的柔软度得到提升,便于后序中的浸渍作业,同时使制得介质布的剥离强度得到提升。

技术领域

本发明涉及覆铜板用介质布制作技术领域,具体涉及一种覆铜板用介质布的制备方法。

背景技术

印制线路板广泛应用于计算机、通讯、仪表、军工、汽车、科学器材等领域,为元器件插装、焊接、检查和维修提供识别和图形。印制线路板的基板又称覆铜板。随着通信、电子产品逐渐向高速、高频化发展,高频高性能聚四氟乙烯覆铜板市场需求也迅速增长。

聚四氟乙烯覆铜板是用玻纤布经过一系列处理得到介质布、再将介质布和铜箔结合制得,因此玻纤布的制备对覆铜板的性能影响很大。对高频微波线路而言,介电常数要稳定,介质损耗因子且越小越好。

然而现有技术中的覆铜板介质损耗因子较高,表面绝缘电阻小,抗弯强度低,剥离强度低。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的问题,提供一种覆铜板用介质布的制备方法,它可以实现提供具有高表面绝缘电阻、机械强度高、剥离强度高的介质布。

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明是通过以下技术方案实现的:

一种覆铜板用介质布的制备方法,包括如下步骤:

S1、将玻纤布置于蒸汽中,再往玻纤布表面均匀涂上浸润液,将玻纤布加热并浸润,其中蒸汽温度为150-160°,加热时间20-25min;

S2、将全氟烷氧基浓缩分散液与蒸馏水混合,过滤后制得过滤液I;

S3、将全氟烷氧基浓缩分散液、聚四氟乙烯浓缩分散液、蒸馏水、乳化剂混合制得过滤液II;

S4、将S1处理后的玻纤布置于甩干机中进行甩干;

S5、将S4处理后的玻纤布置于过滤液I中,浸渍20-26s,然后取出置于烘道中进行干燥;

S6、将S5处理后的玻纤布置于过滤液II中,浸渍30-40s,然后取出置于烘道中进行干燥;

S7、将S6处理后的玻纤布置于具有三段升温的烘道中进行干燥,其中第一段温度120-130°,第二段温度150-165°,第三段温度190-203°,烘道车速为1.1-1.6m\min;

S8、将S7处理后的玻纤布置于压制机中进行压制成型,其中压制机的加热板温度设为110-115°、120-130°、80-95°三个阶段,最终制得介质布。

进一步地,所述步骤S1中浸润液的成分由如下以重量份数计的原料组成:甘油20-25份、蒸馏水30-40份、聚乙二醇2-6份。

进一步地,所述步骤S3中乳化剂为辛基酚聚氧乙烯醚、苯乙基酚聚氧丙烯聚氧乙烯醚、二苄基异丙苯基酚、苯乙基异丙苯基酚聚氧乙烯醚中任意一种。

进一步地,所述步骤S3中各组分中全氟烷氧基浓缩分散液、聚四氟乙烯浓缩分散液、蒸馏水、乳化剂比例为1.3\2.1\5\0.8。

进一步地,所述步骤S8中具体步骤如下:

S8.1、将S7处理后的玻纤布置于压制机中,调整加热板温度为110-115°,加热时间为30-35s;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广德瓯科达电子有限公司,未经广德瓯科达电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811525635.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top