[发明专利]一种基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻镜头和装置在审
| 申请号： | 201811509704.6 | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN109613801A | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;王长涛;赵承伟;蒲明博;李雄 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 超分辨 分光镜 光刻 激发 分光 镜头 承载模块 分光系统 掩模 表面等离子体 等离子体成像 空气净化系统 成像对比度 承载表面 承载基片 创新技术 光刻装置 紫外曝光 工作距 光源光 均匀性 工作台 近场 光源 改进 | ||
1.一种基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻装置，其特征在于：该装置包括用于保护光刻装置的空气净化系统(1)、用于产生i线紫外曝光光束的光源(2)、用于激发照明的分光镜分光系统(3)、用于承载表面等离子体成像器件的掩模承载模块(4)和用于承载基片的工作台(5)；
所述的工作台(5)包括XY轴精密移动平台(18)、手动升降台(16)、承片台(15)和基片(12)，其中手动升降台(16)安装在XY轴精密移动平台(18)上，承片台(15)安装在手动升降台(16)上，基片(12)安放在承片台(15)上。
2.根据权利要求1所述的基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻装置，其特征在于：安装时，光源(2)、分光镜分光系统(3)、掩模承载模块(4)和工作台(5)需安装同光轴，分光镜分光系统(3)安装在掩模支架(17)上表面，XY轴精密移动平台(18)安装在掩模支架(17)的下部，基片(12)上表面到表面等离子体成像器件(11)下表面的可调节距离为0～25mm，掩模支架(17)与光源(2)安装在同一隔振平台(19)上。
3.一种基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻镜头，其特征在于：该镜头包括分光镜分光系统(3)和掩模承载模块(4)；
所述的分光镜分光系统(3)包括分光系统支架(6)、分光镜(7)、左反射镜(8)、中反射镜(9)和右反射镜(10)，其中左反射镜(8)、中反射镜(9)分别通过各自的镜框安装在分光系统支架(6)上；
所述的掩模承载模块(4)包括掩模支架(17)、旋转支座(14)、掩模支板(13)和表面等离子体成像器件(11)；其中旋转支座(14)安装在掩模支架(17)上，掩模支板(13)通过销钉与旋转支座(14)连接，表面等离子体成像器件(11)安装在掩模支板(13)上；
所述的SP激发照明超分辨光刻镜头工作时，光束进入分光镜分光系统(3)入射到分光镜(7)上进行分光；分光镜(7)为半反半透镜，光束入射到分光镜(7)后，一半被反射到左反射镜(8)上；另一半透射到中反射镜(9)上，从中反射镜(9)反射出来的光束，再次入射到右反射镜(10)上；两个分光束被左反射镜(9)、右反射镜(10)反射后，光束从分光镜分光系统(3)出来，重叠入射到掩模承载模块(4)的表面等离子体成像器件(11)上。
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