[发明专利]可调控反射率的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜

权利要求书

1.一种可调控反射率的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，它通过以下方法制备得到：

(1)制备靶材：按Zr、Cu、Al、Ti的原子总含量100at.％计，Zr的原子含量为44.0～49.0at.％，Cu的原子含量为41.5～48.5at.％，Al的原子含量为6.5～7.5at.％，Ti的原子含量为1.0～2.0at.％；将Zr、Cu、Al、Ti按配比混合后置于真空熔炼炉中，在真空度2.5×10^-3～3.0×10^-3帕、电流值2.5～3.0安培下熔炼得到锭子，再将锭子置于浇铸炉中，在真空度1.0×10^-2～8×10^-3帕、电流为60～80安培下浇铸成靶材；

(2)将步骤(1)制备的靶材置于多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；

(3)基底采用晶面方向为100的硅单面抛光片，将硅单面抛光片抛光面朝下，安装在多靶磁控溅射镀膜设备的基片架上；

(4)将多靶磁控溅射镀膜设备的腔体抽真空至溅射室腔内气压为5.0×10^-7帕，将基底温度调至25～400℃，然后充入体积百分比高于98％的氩气，调节多靶磁控溅射镀膜设备的分子泵挡板阀至腔内气压为0.3帕，在溅射功率79～81W、溅射电流为0.259～0.275安培、溅射电压为292～305伏特、基片架公转速度为3转/分下溅射66.9～67.1分钟，制得Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜；

(5)将制得的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜转移至与溅射室相连的真空度为8.0×10^-4～9.0×10^-3帕的样品室中，冷却至室温后取出。

2.根据权利要求1所述的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，所述步骤(1)中，Zr、Cu、Al、Ti的原子含量为46.5at.％、45.0at.％、7.0at.％、1.5at.％。

3.根据权利要求1所述的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，所述步骤(1)中，在真空熔炼炉熔炼时将锭子反转并重复熔炼4次，保证最终靶材的成分均匀。

4.根据权利要求1所述的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，所述步骤(3)中，硅单面抛光片的直径为25.4毫米，厚度为1毫米，均方根粗糙度为0.6nm。

5.根据权利要求1所述的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，所述步骤(4)中，溅射功率为80W。

6.根据权利要求1所述的Zr-Cu-Al-Ti金属玻璃薄膜，其特征在于，所述步骤(4)中，溅射时间为67分钟。