[发明专利]一种真空吸盘在审
| 申请号： | 201811503899.3 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109300834A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 刘孟勇;丁滔滔;刘武;邢瑞远;陈国良 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵秀芹;王宝筠 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶圆 吸盘主体 外围部 径向伸缩 真空吸盘 形变 键合 吸附 申请 晶圆键合 晶圆平面 固定的 中心部 匹配 | ||
1.一种真空吸盘，其特征在于，包括吸盘主体；所述吸盘主体包括固定的中心部和能够沿所述吸盘主体径向方向伸缩的外围部，所述外围部位于所述中心部的外围；
所述吸盘主体包括用于吸附晶圆的吸附面，所述吸附面上设置有多个吸附孔，所述吸附孔与气路连通，所述气路贯穿所述吸盘主体且被设置为与真空源相连接。
2.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘还包括可伸缩部件，
所述可伸缩部件位于背对所述吸附面的吸盘主体表面上，所述可伸缩部件沿着所述吸盘主体的径向方向延伸，其中一端连接在所述中心部，另一端连接在所述外围部。
3.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述外围部包括多个子外围部。
4.根据权利要求3所述的真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘还包括多个可伸缩部件，
所述多个可伸缩部件位于背对所述吸附面的吸盘主体表面上，每个所述可伸缩部件沿着所述吸盘主体的径向方向延伸，其中一端连接在所述中心部，另一端连接在所述子外围部，且所述可伸缩部件和所述子外围部一一对应。
5.根据权利要求4所述的真空吸盘，其特征在于，所述多个可伸缩部件在所述吸盘主体的圆周方向上均匀分布。
6.根据权利要求4或5所述的真空吸盘，其特征在于，所述多个可伸缩部件关于所述吸盘主体的中心呈中心对称分布。
7.根据权利要求2、4-6任一项所述的真空吸盘，其特征在于，所述可伸缩部件为气动伸缩部件或步进马达。
8.根据权利要求7所述的真空吸盘，其特征在于，所述气动伸缩部件为气泵。
9.根据权利要求1-8任一项所述的真空吸盘，其特征在于，所述多个吸附孔在所述吸附主体的圆周方向上均匀分布。
10.根据权利要求1-9任一项所述的真空吸盘，其特征在于，所述多个吸附孔在所述吸附主体的径向方向上均匀分布。
11.根据权利要求1-10任一项所述的真空吸盘，其特征在于，所述多个吸附孔均匀分布在所述吸盘主体的同一圆周上。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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