[发明专利]大功率激光照明用超薄荧光陶瓷、制备方法及光学系统

权利要求书

1.大功率激光照明用超薄荧光陶瓷，其特征在于，包含有，荧光陶瓷的化学组成为(Ce_xRe_yY_1-x-y)₃Al₅O₁₂，其中，Re为Gd或Tb，x、y的取值范围为：0.005≤x≤0.05，0.05≤y≤0.25。

2.根据权利要求1所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷，其特征在于，荧光陶瓷的平均晶粒尺寸≤5μm。

3.根据权利要求1或2所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷，其特征在于，荧光陶瓷为平板状，厚度d的的取值范围为：0.2≤d≤1.0mm。

4.根据权利要求1所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷，其特征在于，用于激发荧光陶瓷的激光波长范围为420-500nm，并且荧光陶瓷在激光的激发下所形成的发射光波的波长范围为450-750nm。

5.大功率激光照明用超薄荧光陶瓷的制备方法，用于制备权利要求1至4中任意一项所述的荧光陶瓷，其特征在于，包含有以下步骤，

步骤S1，制备荧光粉体：根据(Ce_xRe_yY_1-x-y)₃Al₅O₁₂的计量配比，其中，Re为Gd或Tb，x、y的取值范围为：0.005≤x≤0.05，0.05≤y≤0.25，以氧化物和硝酸盐为原料，采用金属离子络合剂络合后，经过自组装法，得到荧光粉体；

步骤S2，制备水性浆料：荧光粉体内添加分散剂、环氧树脂及固化剂，经过搅拌分散，得到水性浆料；

步骤S3，制备陶瓷素坯：将水性浆料真空除泡后注入板状模具中成型，得到陶瓷素坯；以及，

步骤S4，真空烧结陶瓷素坯，得到荧光陶瓷。

6.根据权利要求5所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷的制备方法，其特征在于，步骤S1中，荧光粉体的粒径范围为100-500nm。

7.根据权利要求5所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷的制备方法，其特征在于，步骤S4中，板状模具的内部具有模具垫条，根据垫条厚度调整素坯厚度在0.2~1.0mm可控。

8.根据权利要求5所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷的制备方法，其特征在于，步骤S4中，板状模具为硬化有机材质，诸如，尼龙、聚四氟乙烯。

9.根据权利要求5所述的大功率激光照明用超薄荧光陶瓷的制备方法，其特征在于，还包含有，

步骤S5，荧光陶瓷的上表面覆盖增透膜层（BLUE PASS），荧光陶瓷的下表面覆盖镀银层。

10.光学系统，其特征在于，包含有，

激发光源，其产生蓝光LD；以及，

权利要求1至4中任意一项所述的荧光陶瓷；

在蓝光LD的激发下，荧光陶瓷产生的发射光与蓝光LD混合成白光，承受的辐照功率密度≥25W/mm²。