[发明专利]Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜及其制备方法有效
| 申请号： | 201811487200.9 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN109298475B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 涂昱淳;朱京涛;袁妍妍;叶君建;谢志勇;王伟;黄秀光;傅思祖 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/06 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 201899 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | cr 高热 稳定性 射线 多层 反射 及其 制备 方法 | ||
1.一种Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜，其特征在于，该反射镜包括基底(1)，在所述基底(1)上依次层叠设有打底层(2)，Cr/C周期多层膜(3)和保护层(4)，所述Cr/C周期多层膜(3)中包括C膜(31)和Cr膜(32)，所述C膜(31)和Cr膜(32)交替分布，所述打底层(2)镀制在基底(1)上，Cr/C周期多层膜(3)中与打底层(2)接触的为C膜(31)，Cr/C周期多层膜(3)中与保护层(4)接触的为Cr膜(32)，保护层(4)镀制在与其相接触的Cr膜(32)上；
与打底层(2)接触的为C膜(31)的厚度为1-5nm；与保护层(4)接触的为Cr膜(32)的厚度为1-5nm，所述Cr/C周期多层膜(3)的周期数为20-100个，其总厚度为200-400纳米，所述C膜(31)和Cr膜(32)的厚度比为1:1。
2.根据权利要求1所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜，其特征在于，所述基底(1)的材料为硅片或玻璃；所述打底层(2)的材料为Cr，所述打底层的厚度为5-10纳米。
3.根据权利要求1所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜，其特征在于，所述保护层(4)的材料为C或B4C，其厚度为2-5纳米。
4.一种权利要求1所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜的制作方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
S1、首先在基底(1)上镀制打底层(2)；
S2、然后在打底层(2)上镀制Cr/C周期多层膜(3)；
S3、然后在Cr/C周期多层膜(3)上镀制保护层(4)，制得Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜。
5.根据权利要求4所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜的制作方法，其特征在于，所述S1-S3中镀制均采用直流磁控溅射方法，模式为恒功率溅射。
6.根据权利要求4所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜的制作方法，其特征在于，所述S1-S3中所述的镀制打底层(2)、镀制Cr/C周期多层膜(3)、镀制保护层(4)所采用的Cr靶、C靶和B4C靶的纯度均在99.5％以上。
7.根据权利要求4所述的Cr/C高热稳定性X射线多层膜反射镜的制作方法，其特征在于，所述S1中镀制打底层(2)前基底(1)真空优于8E-5帕斯卡。
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