[发明专利]一种高产胞外多糖的罗氏假单胞菌PYQ4及其多糖制备方法和应用有效
申请号: | 201811481048.3 | 申请日: | 2018-12-05 |
公开(公告)号: | CN109486712B | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 周文文;汪旖清 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C12N1/20 | 分类号: | C12N1/20;C12P19/04;A61K8/73;A61Q19/00;C12R1/38 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 郑海峰 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高产 多糖 罗氏假单胞菌 pyq4 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明公开了一种高产胞外多糖的罗氏假单胞菌PYQ4及其多糖制备方法和应用。该菌株分类命名为罗氏假单胞菌(Pseudomonas rhodesiae)PYQ4,保藏于中国普通微生物菌种保藏管理中心,保藏编号为CGMCC No.16674。本发明包括菌株的分离培养及16S rDNA鉴定;菌株发酵产物胞外多糖的获得以及该菌株所产胞外多糖在晒后损伤修复上的应用。本发明公开的罗氏假单胞菌PYQ4所产多糖能显著提高晒后损伤细胞的增值活性,具有明显的晒后损伤修复作用,其作为微生物发酵的天然产物具有成本低廉、简单易获得等特点,可应用于相关晒后修复剂的制备,且具有良好的市场应用前景。
技术领域
本发明属于微生物技术领域,特别涉及一种高产胞外多糖的罗氏假单胞菌属菌株PYQ4,以及所产生的胞外多糖在晒后修复方面的用途。
背景技术
随着大气污染逐年加重,臭氧层遭到严重破坏,辐射到地球表面紫外线显著增加,影响人们的生活质量。目前,UV对生物体的损伤作用及其防护已成为全球普遍关注的热点问题。
皮肤是人体抵御外界各种理化刺激的第一道防线及生物屏障,其中UV是皮肤接触的重要有害因素之一。研究表明,过度暴露于紫外线辐射,是造成皮肤光损伤的主要原因,可引起红斑、炎症、色素沉积等。UV辐照会诱导细胞产生过量的活性氧(ROS),破坏自身抗氧化防御系统,引起脂质过氧化反应,影响相关信号传导通路,损伤细胞结构或功能,从而诱发免疫抑制、恶性肿瘤等疾病。UV辐照还可能对细胞的DNA造成直接损伤,形成环丁烷嘧啶二聚体(CPDs)和6-4嘧啶酮(6-4PPs)。
值得注意的是,近年来,皮肤护理产品用于保养健康皮肤的主要作用正在增加。然而,目前晒后修复市场上的护肤品功效成分大多是化学品或植物来源的天然提取物。而微生物来源的天然提取物正成为这个领域的新起之秀。与前者相比,消费者更青睐天然提取物,与后者相比微生物来源的天然提取物比植物来源的成本更低廉,且简单易获取,因此具有良好的市场前景。
近年来,关于微生物胞外多糖的在改善皮肤性状上的应用研究日益增加,例如利用以乳酸乳球菌等产生的磷酸化多糖作为保湿剂和美白剂利用的方法(日本特开平9-249524号公报、日本特开平10-251140号公报)、以乳杆菌属菌株产生的多糖成分作为消炎剂利用的方法(日本特开平7-70209号公报),乳酸菌发酵乳中分离的胞外多糖预防无毛小鼠紫外线诱发的皮肤损伤(International Journal of Molecular Sciences,2017)等,但尚未有将假单胞菌胞外多糖作为晒后修复成分使用的报道。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能高产胞外多糖的罗氏假单胞菌及其所产胞外多糖在晒后损伤修复领域的应用方法,为晒后修复领域提供成本低廉、简单易获取的,不同于化学品以及植物提取物的微生物发酵来源材料,具有广阔的应用前景。
本发明公开了一株能产多糖,且所产多糖具有促进晒后损伤细胞增殖,起到晒后损伤修复效用的微生物菌株。该菌株通过革兰氏染色呈红色,为革兰氏阴性菌,同时通过测定16S rDNA的序列来进行菌种鉴定。将该菌种的所测得到的序列在NCBI数据库中进行BLAST对比分析,发现与罗氏假单胞菌(Pseudomonas rhodesiae)的16S rDNA序列具有高度同源性。可确定该菌种为罗氏假单胞菌,命名为Pseudomonas rhodesiae PYQ4。该菌株的生物保藏信息为:中国普通微生物菌种保藏管理中心(地址:北京市朝阳区北辰西路1号院),菌种保藏号CGMCC No.16674,保藏日期为2018年11月1日。
本发明所述菌株在产糖固体培养基上的单菌落呈圆形、黄绿色且粘稠。且该菌株会产生黄绿色色素扩散至整个平板。
作为优选,所述产糖固体培养基组分为:蔗糖10-20g/L、胰蛋白胨5-10g/L、酵母粉5g/L、Na2HPO4·12H2O 3g/L、琼脂15-20g/L,余量为蒸馏水。
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