[发明专利]一种高透低辐射镀膜玻璃

权利要求书

1.一种高透低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀在所述玻璃基片一个表面的膜层，所述膜层自玻璃基片的一侧由里向外依次包括：第一层保护层、第二层连接层、第三层功能层、第四层阻挡层、第五层连接层、第六层保护层、第七层耐氧化保护层，所述膜层采用真空磁控溅射镀膜方法镀于玻璃基片的一个表面，其中第一层保护层材料为金属氮化物、硅的氮化物或者金属氮化物与硅的氮化物组合物；所述第二层连接层材料为ZnAlOx或陶瓷状态的AZO材料；所述第三层功能层材料为Ag，所述第四层阻挡层材料为NiCr，所述第五层连接层材料为陶瓷状态的AZO；所述第六层保护层材料为SiAlNx；所述第七层耐氧化保护层材料为陶瓷状态的ZrOx。

2.根据权利要求1所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第一层保护层材料为SiAlN_x；所述第二层连接层材料为ZnAlOx；所述第三层功能层材料为Ag，所述第四层阻挡层材料为NiCr，所述第五层连接层材料为陶瓷状态的AZO材料；所述第六层保护层材料为SiAlN_x；第七层耐氧化保护层材料为陶瓷状态的ZrOx。

3.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第一层保护层厚度为15-40nm；所述第二层连接层厚度为5-30nm；所述第三层功能层厚度为5-15nm，所述第四层阻挡层厚度为1-8nm，所述第五层连接层厚度为5-30nm；所述第六层保护层厚度为10-30nm；第七层耐氧化保护层厚度为2-20nm。

4.根据权利要求3所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第一层保护层25-40nm、第二层连接层20-35nm、第三层功能层6-10nm、第四层阻挡层2-5nm、第五层连接层8-15nm、第六层保护层15-25nm、第七层耐氧化保护层5-12nm。

5.根据权利要求4所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第一层保护层25nm、第二层连接层27nm、第三层功能层9nm、第四层阻挡层3nm、第五层连接层15nm、第六层保护层23nm、第七层耐氧化保护层8nm。

6.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第一层保护层SiAlN_x的硅铝靶为硅铝重量比为5％一15％，硅、铝的纯度均为99.900％—99.999％；所述第二层连接层ZnAlOx的锌铝靶为锌铝重量比为10％一30％，锌、铝的纯度均为99.900％-99.999％；所述功能层银靶纯度为99.900％一99.999％；所述阻挡层镍铬靶为铬镍重量比为20％一30％；所述陶瓷状态的AZO陶瓷靶纯度为99.50％一99.99％；所述陶瓷状态ZrOx的陶瓷靶纯度为99.50％一99.99％。

7.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第二层连接层ZnAlOx的锌铝靶采用纯氧气溅射。

8.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第四层阻挡层为平面阴极，通过减小溅射挡板开口的方法过滤掉较低能量的溅射离子，从而得到致密NiCr阻挡层；所述溅射开口为50mm。

9.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述第七层耐氧化保护层为陶瓷ZrOx靶材，成膜过程中在恒定的成膜可见光吸收下进行溅射，所述溅射气体体积比为氧气：氩气≥90/1200。

10.根据权利要求2所述的一种高透低辐射镀膜玻璃，所述溅射气体体积比为氧气：氩气＝100/1200。