[发明专利]一种耐高温低形变的陶瓷架

权利要求书

1.一种耐高温低形变的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架设有网格，所述陶瓷架所含原料为氧化镁0.3％，二氧化硅0.15％，氧化铝99.5％，粘结剂0.05％。

2.根据权利要求1所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架为方形。

3.根据权利要求2所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架的两个对角位置设有锥形脚，相对应的另外两个对角位置设有与锥形脚匹配的凹槽。

4.根据权利要求2所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架平行的两边上分别设有一个缺口。

5.一种权利要求1所述耐高温低形变的陶瓷架的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将0.3％氧化镁、0.2％二氧化硅、0.05％粘结剂和99.5％氧化铝混合，采用注浆成型工艺制成陶瓷架坯料；

(2)将步骤(1)制成的坯料置于排蜡专用填料中，于200-240℃的烤箱中烘烤排蜡，排蜡时间为8-10h，排蜡完毕后冷却至室温；

(3)将步骤(2)排蜡处理坯料置于终烧专用填料中，在烧炉中，于800-900℃下，烧结5-7h；

(4)将步骤(3)处理的坯料再置于1700-1750℃条件下高温烧结12h；

(5)最终对烧结的坯料进行清洗，抛光处理，制得所述耐高温低形变的陶瓷架。

6.根据权利要求5所述制备方法，其特征在于，所述排蜡专用填料为400目的氧化铝。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述终烧专用填料为200目高纯氧化铝粉。

8.一种权利要求1所述耐高温低形变的陶瓷架的应用，其特征在于，所述陶瓷架用于高温制品烧结的托盘。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述陶瓷架可以多层罗列，相近的两个陶瓷架的锥形脚与另一个陶瓷架的凹槽匹配，达到两个陶瓷架的稳定叠加。