[发明专利]一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述彩膜基板的制备工艺包括如下步骤：

在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵；

在所述透明导电薄膜或者黑矩阵上涂布色阻形成像素单元。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：

在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层；

在透明导电薄膜层上通过涂布操作形成黑矩阵。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：

在基板衬底上通过涂布操作形成黑矩阵；

在黑矩阵上通过溅射制程形成透明导电薄膜层。

4.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板通过如权利要求1-3任一项所述的彩膜基板的制备工艺制备而成，所述彩膜基板位于显示器中液晶层的出光侧，所述彩膜基板包括：

基板衬底、透明导电薄膜及色阻，所述透明导电薄膜及色阻均设置在所述基板衬底上，其中所述透明导电薄膜位于所述基板衬底与所述色阻之间，且所述透明导电薄膜至少覆盖所述色阻围成的区域。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述色阻之间，所述色阻涂布在所述黑矩阵上。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述基板衬底之间，所述色阻涂布在所述透明导电薄膜上。

7.根据权利要求5或6所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻包括红、绿、蓝三种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及黄四种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及白四种基色色阻。

8.一种显示屏，其特征在于，包括如权利要求4-7任一项所述的彩膜基板。

9.根据权利要求8所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏还包括液晶及阵列基板，所述液晶位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，光从所述阵列基板一侧经液晶传播至彩膜基板，并透过色阻传出彩膜基板。

10.根据权利要求9所述的显示屏，其特征在于，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述彩膜基板的主体上。