[发明专利]对准标记、掩膜版及其制备方法在审
| 申请号： | 201811476860.7 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109358475A | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 汪际军 | 申请（专利权）人： | 全普光电科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/80;B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200000 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对准标记 掩膜版 对准 相邻层 多层 套刻 制备 小尺寸图形 高集成度 | ||
1.一种用于多层掩膜版套刻的对准标记，其特征在于，在多层掩膜版层的堆叠设置中，从下往上的每层掩膜版中的对准标记都相对应且对准。
2.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于，上下相邻的对准标记相对应，在每个掩膜版层中至少设置两个对准标记。
3.根据权利要求2所述的对准标记，其特征在于，每一层掩膜版层中的对准标记图案不同或者图案相同但尺寸不同。
4.根据权利要求3所述的对准标记，其特征在于，针对每一层掩膜版层中的对准标记图案相同但大小不同的情况，掩膜版层的堆叠设置中，使得从下往上的每层掩膜版中的对准标记依序递增，且在同一掩膜版层中的各个对准标记依序递增，而且上下相邻的掩膜版层中至少有一个对准标记尺寸相同，尺寸相同的对准标记用于重叠对准。
5.根据权利要求3所述的对准标记，其特征在于，针对每一层掩膜版层中的至少两个对准标记图案不同的情况，掩膜版层的堆叠设置中，上下相邻的掩膜版层中至少有一个对准标记图案和尺寸相同，图案和尺寸相同的对准标记用于重叠对准。
6.根据权利要求5所述的对准标记，其特征在于，当每一层掩膜版层中设置三个及以上的对准标记时，其中一个对准标记与上相邻层的对准标记相同，一个对准标记与下相邻层的对准标记相同，剩余的一个或多个对准标记与其它非相邻层的对准标记相同。
7.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述对准标记的图案为圆环。
8.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述对准标记的图案为一字型。
9.根据权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述对准标记的图案由一字和环绕一字设置的圆环共同组成。
10.一种带有权利要求1～10任意一项所述的对准标记的掩膜版。
11.一种带有权利要求9所述的对准标记的掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：
步骤I：在掩膜版层中形成一字图形；
步骤II：在一字图形外围形成圆环图形。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述步骤I和步骤II中采用电子束或激光来刻蚀掩膜版。
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