[发明专利]一种高压条件下的光谱测量方法

说明书

本发明涉及材料研究领域，一种高压条件下的光谱测量方法，高压条件下的光谱测量装置包括上压力盘、下压力盘、调平螺丝、压力螺丝、顶砧限位螺丝、上支撑盘、下支撑盘、上顶砧、下顶砧、环形垫圈、压力媒介、样品、限位螺杆、光收集系统和激光器，能够在高压条件下研究样品的光谱特性，采用从上顶砧的冠部斜切面入射激光的方法，使得入射顶砧的激光和经过样品表面反射的激光分别通过顶砧的冠部斜切面进入和离开顶砧，使得激光在样品表面的入射角较大，更有效地过滤顶砧材料的光散射信号，从而使得顶砧的散射光与样品的散射光的分离度更高，样品散射信号的信噪比更大，无导轨结构来对顶砧施压，避免了由于部件松弛而造成的对样品施加压力的偏差。

技术领域

本发明涉及材料研究领域，尤其是一种在高压条件下研究样品的光谱特性的一种高压条件下的光谱测量方法。

背景技术

研究材料的某些特性随外加压力的变化具有重要意义，高压光谱测量技术是一种典型的研究方法，比如包括拉曼散射在内的可见光的非弹性散射技术，非常适合于研究材料特性对光子能量、磁相互作用、等离子体能量、电子能带结构及超导能隙的依赖关系，通常采用顶砧等压力施加装置对待测材料样品施加压力，同时结合光谱技术对材料进行测量。尤其是高压光散射技术被广泛采用，其优点是能够收集的从样品发出的散射光的立体角较大，样品的散射光信号较强。但是，现有技术的装置也存在下列缺陷，现有技术缺陷一：现有技术某些不透明且散射信号较弱的特殊材料较难得到清晰的拉曼散射光谱，特别是光谱范围与顶砧材料的单光子及双光子拉曼散射谱范围有重叠的材料。现有技术缺陷二：现有技术中的高压光谱测量通常采用支撑台结合金刚石顶砧，并将支撑台沿着固定的导轨压紧以对样品施加压力，导轨的松弛会造成位移的微小偏差，并由于支撑台对顶砧底面的压力分布不均，从而导致顶砧之间的压力偏差，所述一种高压条件下的光谱测量方法能够解决问题。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目标是更有效地过滤顶砧材料的光散射信号，本发明的方法使得入射顶砧的激光和经过样品表面反射的激光分别通过顶砧的冠部斜切面进入和离开顶砧，另外，本发明采用无导轨结构对样品施加压力，避免了由于部件老化松弛而造成压力偏差。

本发明所采用的技术方案是：