[发明专利]用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置在审
申请号: | 201811468141.0 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN109285921A | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 陈五奎;刘强;石平;徐文州;陈磊 | 申请(专利权)人: | 乐山新天源太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 李玉兴 |
地址: | 614000 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 均化 太阳能电池 均化装置 气体混合 区域调节 混合气体 调节腔 均流板 主壳体 硅片 两层 体内 倒锥形腔体 安装通腔 倒锥形腔 分流装置 硅片表面 矩形腔体 均匀覆盖 内腔上部 矩形腔 通气管 保证 | ||
本发明公开了一种能够使得混合气体均匀分布在硅片周围的用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置。该用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置,包括均化主壳体、均化区域调节体以及分流装置;所述均化主壳体的内腔上部为倒锥形腔体,下部为矩形腔体;所述倒锥形腔体内设置有至少两层第一均流板;所述矩形腔体内具有至少两层第二均流板;所述均化区域调节体中心位置设置有安装通腔;所述均化区域调节体的两端均设置有调节腔;所述调节腔上方设置有通气管。采用该用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置,能够保证混合气体均匀覆盖在硅片表面的周围,同时能够适用于不同长度的硅片;能够有效的降低生产成本。
技术领域
本发明涉及的太阳能电池的抗PID领域,尤其是一种用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置。
背景技术
众所周知的:太阳能电池的PID效应的英文全称是:Potential InducedDegradation,即电势诱导衰减。2005年美国SunPower公司首次发现并提出PID效应,指组件长期在高电压工作,在盖板玻璃、封装材料、边框之间存在漏电流,大量电荷聚集在电池片表面,使得电池片表面的钝化效果恶化,导致填充因子、短路电流、开路电压降低,使组件性能低于设计标准,但此衰减是可逆的。
因此太阳能电池板需要对其进行抗PID处理,从而避免太阳能电池板出现PID现象;现有的太阳能电池板抗PID设备需要将氧气和氮气进行混合然后通过臭氧发生器生产臭氧,通过臭氧、氧气和氮气的混合气体覆盖在硅片表面,保证硅片表面形成高纯致密的二氧化硅层,厚度大概在10-20nm,从而解决电池组件中玻璃产生的钠离子引起的电位诱导效应。
现有的技术中一般是直接将混合气体直接通入到硅片表面,从而使得硅片表面接触到的气体不均匀,从而无法保证硅片表面形成高纯致密的二氧化硅层。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能够使得混合气体均匀分布在硅片周围的用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:用于太阳能电池抗PID设备的气体混合均化装置,包括均化主壳体、均化区域调节体以及分流装置;所述均化主壳体具有下部开口的内腔,所述均化主壳体顶部设置有进气管;所述均化主壳体的下部边缘设置有凸缘;
所述均化主壳体的内腔上部为倒锥形腔体,下部为矩形腔体;所述倒锥形腔体内设置有至少两层第一均流板;每层第一均流板包括至少两块第一均流板,且沿横向均匀分布;相邻两层第一均流板交替分布,即上层相邻两块第一均流板之间的间隙位于下层第一均流板的正上方;
所述矩形腔体内具有至少两层第二均流板;每层第二均流板包括至少两块第二均流板,且沿横向均匀分布;相邻两层第二均流板交替分布,即上层相邻两块第二均流板之间的间隙位于下层第二均流板的正上方;
所述均化区域调节体中心位置设置有安装通腔;所述均化区域调节体的两端均设置有调节腔;所述调节腔上方设置有通气管;
所述均化区域调节体套装在均化主壳体上,所述均化主壳体穿过安装通腔;所述安装通腔与均化主壳体的下端匹配;
所述调节腔的端面和下表面具有开口,所述调节腔的一端设置有侧面密封板;所述调节腔内设置有至少两层横向的均流板;所述调节腔的中心位置设置有横向的丝杆;
所述侧面密封板上设置有驱动丝杆转动的驱动电机;所述调节腔内滑动安装有均化调节板;所述均化调节板上设置有与均流板匹配的穿孔;所述均流板穿过均化调节板,所述丝杆穿过均化调节板,且与均化调节板螺纹配合;
所述通气管通过导气管与分流装置连通,所述进气管与流装置连通;所述通气管与分流装置之间的导气管上设置有电磁阀。
进一步的,所述均化调节板的下端两侧均设置有凸块;所述调节腔的侧壁上下方设置有与凸块匹配的横向滑槽;所述凸块滑动安装在横向滑槽内。
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