[发明专利]一种多重响应波段的半导体探测器有效

专利信息
申请号: 201811460341.1 申请日: 2018-12-01
公开(公告)号: CN109713077B 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 王星河 申请(专利权)人: 王星河
主分类号: H01L31/111 分类号: H01L31/111;B82Y15/00;B82Y30/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 多重 响应 波段 半导体 探测器
【说明书】:

发明公开一种多重响应波段的半导体探测器,依次包括衬底、第一导电型半导体,InxGa1‑xN/GaN量子阱,V‑pits,第一Au纳米颗粒,AlN纳米柱,Al2O3纳米柱,β‑Ga2O3:III纳米柱,第二Au纳米颗粒,第二导电型Si基板,其特征在于所述InxGa1‑xN/GaN量子阱的V‑pits上方依次沉积第一Au纳米颗粒、AlN纳米柱、Al2O3纳米柱,β‑Ga2O3:III纳米柱以及第二Au纳米颗粒,所述InxGa1‑xN/GaN量子阱形成第一响应波段,所述AlN纳米柱和第一Au纳米颗粒形成第二响应波段,Al2O3纳米柱和β‑Ga2O3:III纳米柱构成核壳结构形成第三响应波段,所述β‑Ga2O3:III纳米柱/第二Au纳米颗粒/第二导电型Si基板形成第四响应波段,从而在将多重响应波段集成在单个探测器的外延结构中。

技术领域

本发明涉及半导体光电探测器领域,特别是一种具有多重响应波段的半导体探测器管。

背景技术

第三代化合物半导体具有较宽的带隙、电子迁移率高、击穿场强大、抗辐射性能强等优点,适合于制作发光二极管、激光器、探测器等光电子器件。带隙为3.3eV的碳化硅SiC、3.4eV的氮化镓GaN、6.2eV的氮化铝AlN以及带隙为4.2~4.9eV的氮化镓Ga2O3具有宽的带隙以及良好的化学性质,适合于制作紫外光电二极管和日盲探测器。

发明内容

本发明公开一种多重响应波段的半导体探测器,依次包括衬底、第一导电型半导体,InxGa1-xN/GaN量子阱,V-pits,第一Au纳米颗粒,AlN纳米柱,Al2O3纳米柱,β-Ga2O3:III纳米柱,第二Au纳米颗粒,第二导电型Si基板,所述InxGa1-xN/GaN量子阱的In组分为0≤x≤1,所述β-Ga2O3:III纳米柱为β-Ga2O3掺杂III族元素,其特征在于所述InxGa1-xN/GaN量子阱的V-pits上方依次沉积第一Au纳米颗粒、AlN纳米柱、Al2O3纳米柱,β-Ga2O3:III纳米柱以及第二Au纳米颗粒,所述InxGa1-xN/GaN量子阱形成第一响应波段,所述AlN纳米柱和第一Au纳米颗粒形成第二响应波段,Al2O3纳米柱和β-Ga2O3:III纳米柱构成核壳结构形成第三响应波段,所述β-Ga2O3:III纳米柱/第二Au纳米颗粒/第二导电型Si基板形成第四响应波段,从而在将多重响应波段集成在单个探测器的外延结构中。

进一步地,所述第一Au纳米颗粒/AlN纳米柱/Al2O3纳米柱/β-Ga2O3:III纳米柱/第二Au纳米颗粒组合的复合纳米结构的击穿场强大于8Mv/cm,提升该多重响应波段的半导体探测器的抗高压能力和ESD能力。

进一步地,所述V-pits的尺寸为50~500nm,所述第一Au纳米颗粒的尺寸为50~500nm,第二Au纳米颗粒的尺寸为50~500nm。

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