[发明专利]一种液晶膜及其制备方法

权利要求书

1.一种液晶膜，其特征在于，包括：基板、取向膜以及液晶层；

所述取向膜设置于所述基板的一侧，所述液晶层设置于所述取向膜远离所述基板的一侧；

所述取向膜具有分子指向矢呈设定分布的控制图形，以使所述液晶层中邻近所述取向膜的液晶分子的分子指向矢与所述取向膜的分子指向矢呈相同分布；

其中，所述控制图形包含周期排布的多个子控制图形，所述子控制图形中的取向膜的分子指向矢呈0°-180°渐变；所述液晶层包括向列相液晶和手性剂。

2.根据权利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制图形包含多个呈矩形的子控制图形，多个所述子控制图形沿第一方向延伸且沿第二方向排列；所述第一方向与所述第二方向交叉；每个所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述第二方向从0°-180°渐变。

3.根据权利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制图形包含多个呈同心圆环状的子控制图形，每个所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制图形的径向方向从0°-180°渐变。

4.根据权利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制图形包含多个呈扇形的子控制图形；多个扇形的子控制图形构成圆形的所述控制图形；每个所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制图形的圆弧延伸方向从0°-180°渐变。

5.根据权利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述向列相液晶与所述手性剂的质量比的范围为99.1:0.9-99.0:1.0。

6.一种液晶膜的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板的一侧形成取向膜；

对所述取向膜进行取向处理，以形成分子指向矢呈设定分布的控制图形；

在所述取向膜远离基板一侧形成液晶层，所述取向膜的控制图形控制所述液晶层中邻近所述取向膜的液晶分子的分子指向矢与所述取向膜的分子指向矢呈相同分布；

其中，所述控制图形包含周期排布的多个子控制图形，所述子控制图形中的取向膜的分子指向矢呈0°-180°渐变；所述液晶层包括向列相液晶和手性剂。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基板的一侧形成光控取向膜，包括：将取向材料旋涂在所述基板的一侧，并将旋涂有取向材料的基板作退火处理。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，采用动态光控取向系统，根据曝光次序，选择对应的曝光图形，以及对应的诱导光偏振方向，对所述光控取向膜进行连续多次曝光。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述选择对应的曝光图形，以及对应的诱导光偏振方向，对所述光控取向膜进行连续多次曝光包括：

设置相邻步骤曝光图形的曝光区域部分重叠，所述诱导光偏振方向随曝光次序单调增加或单调减小，以使所述控制图形包含多个呈矩形的子控制图形，多个子控制图形沿第一方向延伸且沿第二方向排列；所述第一方向与所述第二方向交叉；所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述第二方向从0°-180°渐变；

其中，每个所述曝光图形均包括多个条状透光区和多个条状遮光区，所述条状透光区和所述条状遮光区间隔设置，且相邻两个所述曝光图形中的条状透光区部分重叠。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述选择对应的曝光图形，以及对应的诱导光偏振方向，对所述光控取向膜进行连续多次曝光包括：设置相邻步骤曝光图形的曝光区域部分重叠，所述诱导光偏振方向随曝光次序单调增加或单调减小，以使所述控制图形包含多个呈同心圆环状的子控制图形，每个所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制图形的径向方向从0°-180°渐变；

其中，每个所述曝光图形均包括多个同心圆环图案，每个同心圆环图案中包括多个环状透光区和多个环状遮光区，所述环状透光区和所述环状遮光区间隔设置，且相邻两个所述曝光图形中的环状透光区部分重叠。

11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述选择对应的曝光图形，以及对应的诱导光偏振方向，对所述光控取向膜进行多次连续曝光包括：设置相邻步骤曝光图形的曝光区域部分重叠，所述诱导光偏振方向随曝光次序单调增加或单调减小，以使所述控制图形包含多个呈扇形的子控制图形；多个扇形的子控制图形构成圆形的所述控制图形；每个所述子控制图形控制所在区域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制图形的圆弧延伸方向从0°-180°渐变；

其中，每个所述曝光图形均包括多个扇形透光区和多个扇形遮光区，所述扇形透光区和所述扇形遮光区间隔设置，且相邻两个所述曝光图形中的扇形透光区部分重叠。