[发明专利]一种管式LPCVD真空反应室

权利要求书

1.一种管式LPCVD真空反应室，其特征在于：包括炉门(100)、前端法兰(200)、前支撑法兰(300)、前密封组件(400)、加热炉体(500)、后支撑法兰(600)、后密封组件(700)、尾端法兰(800)、内层石英管(910)和外层石英管(920)，所述外层石英管(920)套于内层石英管(910)的外部，所述加热炉体(500)套于外层石英管(920)上，所述前支撑法兰(300)和后支撑法兰(600)分别位于外层石英管(920)的两端的外管壁上，所述前支撑法兰(300)、加热炉体(500)和后支撑法兰(600)三者固定设置，所述炉门(100)与前端法兰(200)连接，所述前端法兰(200)盖设于内层石英管(910)和外层石英管(920)的前端端口，所述前端法兰(200)与外层石英管(920)之间通过前密封组件(400)连接，所述前密封组件(400)固定在前支撑法兰(300)上，所述尾端法兰(800)设于内层石英管(910)和外层石英管(920)的后端，且尾端法兰(800)与外层石英管(920)和内层石英管(910)之间通过后密封组件(700)连接，所述后密封组件(700)固定在后支撑法兰(600)上。

2.根据权利要求1所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述前密封组件(400)包括均套于外层石英管(920)上的第一密封法兰(410)和第二密封法兰(420)，所述前端法兰(200)与第一密封法兰(410)连接，所述第一密封法兰(410)与第二密封法兰(420)连接，所述第二密封法兰(420)与前支撑法兰(300)连接。

3.根据权利要求2所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述第一密封法兰(410)和第二密封法兰(420)均为水冷法兰，所述炉门(100)与前端法兰(200)之间设有密封圈(401)，所述前端法兰(200)与第一密封法兰(410)之间以及前端法兰(200)与内层石英管(910)前端端口之间设有密封圈(401)，所述第一密封法兰(410)与外层石英管(920)的前端端口之间设有密封圈(401)，所述第二密封法兰(420)和外层石英管(920)的外管壁之间设有密封圈(401)。

4.根据权利要求1所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述后密封组件(700)包括均套于外层石英管(920)上的第三密封法兰(710)和第四密封法兰(720)，所述第三密封法兰(710)与后支撑法兰(600)连接，所述第四密封法兰(720)与第三密封法兰(710)连接，所述尾端法兰(800)与第四密封法兰(720)连接，所述第四密封法兰(720)具有径向密封部(721)，所述径向密封部(721)与内层石英管(910)和外层石英管(920)的后端端口之间设有密封软垫(730)。

5.根据权利要求4所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述密封软垫(730)为聚四氟挡环；所述第三密封法兰(710)和第四密封法兰(720)均为水冷法兰，所述尾端法兰(800)与第四密封法兰(720)之间设有密封圈(401)，所述第三密封法兰(710)与加热炉体(500)的外管壁之间设有密封圈(401)。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述前端法兰(200)的圆周面上均布至少一圈环形进气孔(210)，所述环形进气孔(210)与内层石英管(910)相通。

7.根据权利要求1至5任意一项所述的管式LPCVD真空反应室，其特征在于：所述加热炉体(500)的前端和后端分别设有前保温棉圈(510)和后保温棉圈(520)，所述前保温棉圈(510)对应设有前保温棉托(511)，所述前保温棉托(511)固定设置且套于外层石英管(920)上，所述前保温棉圈(510)一端套在前保温棉托(511)内，且该端端面设置一个挡板(512)，所述挡板(512)固定在前保温棉托(511)上，前保温棉圈(510)另一端套在加热炉体(500)内，所述后保温棉圈(520)一端套在后支撑法兰(600)内，另一端套在加热炉体(500)内。