[发明专利]一种光动力超疏水型抗感染涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种光动力超疏水型抗感染涂层的制备方法，包括以下步骤：

a）在基底材料表面原位沉积二氧化硅，得到表面处理后的基底材料；

b）在步骤a）得到的表面处理后的基底材料表面进行光敏剂的化学键合，得到表面键合光敏剂的材料；所述光敏剂由质量比为（1~500）：（1~200）：（2~400）的羧基光敏剂、N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基)丙基碳化二亚胺盐酸和N-羟基琥珀酰亚胺组成；

c）将步骤b）得到的表面键合光敏剂的材料进行氟化处理，得到光动力超疏水型抗感染涂层；所述氟化处理的过程具体为：

将得到的表面键合光敏剂的材料置于含氟基硅氧烷的甲苯溶液中，在0℃~10℃下反应1h~8h，再经清洗、干燥，得到光动力超疏水型抗感染涂层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a）中所述基底材料选自高分子材料、织物材料、玻璃或硅片。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a）中所述原位沉积二氧化硅的过程具体为：

将基底材料置于甲醇、异丙醇、氨水的混合溶液中，逐滴加入原硅酸四乙酯，然后在20℃~30℃下反应4h~12h，再经清洗、干燥，得到表面处理后的基底材料。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤a）中所述甲醇、异丙醇、氨水和原硅酸四乙酯的体积比为（15~30）：（60~80）：（15~25）：（5~10）。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤b）中所述化学键合的过程具体为：

将得到的表面处理后的基底材料置于APTES溶液中，在20℃~30℃下反应1h~14h后，浸入到光敏剂中反应2h~30h，再经清洗、干燥，得到表面键合光敏剂的材料。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤b）中所述APTES溶液为体积比为0.5%~5%的APTES甲苯溶液或体积比为0.5%~5%的APTES乙醇溶液。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤c）中所述含氟基硅氧烷的甲苯溶液的体积比为0.1%~0.8%；

所述含氟基硅氧烷选自氟辛基三甲氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、全氟十烷基三氯硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷和十七氟癸基三甲氧基硅烷中的一种或多种。

8.一种光动力超疏水型抗感染涂层，其特征在于，由权利要求1~7任一项所述的制备方法制备得到。