[发明专利]一种功率半导体芯片钎焊溢料控制方法在审
申请号: | 201811448031.8 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN109663998A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 尹国平 | 申请(专利权)人: | 贵州振华风光半导体有限公司 |
主分类号: | B23K1/00 | 分类号: | B23K1/00;B23K1/20;H01L21/48 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 刘安宁 |
地址: | 550000 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 焊料 钎焊 功率半导体芯片 溢出 外壳基座 引流圈 溢料 预制 集成电路芯片 钎焊工艺参数 功率半导体 规模化生产 真空烧结炉 分立器件 工装夹具 焊接区域 激光标刻 芯片放置 芯片焊接 预定区域 工艺流程 短路 放入 钎料 压块 流动 生产 | ||
1.一种功率半导体芯片钎焊溢料控制方法,其特征在于该方法是在芯片焊接前,在外壳基座上,沿功率半导体芯片焊接区域四周,通过激光标刻方式,刻出一道沟槽,形成一个引流圈;按正常钎焊工艺流程在外壳基座上先放置预制焊料,再将芯片放置在预制焊料上,最后加上压块放入真空烧结炉中进行钎焊;此时,溢出的焊料被限制在引流圈范围内,从而防止溢出焊料向外流动,避免造成短路。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述激光标刻方式是采用激光标刻机在外壳基座上,根据需要焊接的功率半芯片安装位置,沿芯片四周与边缘保持一定距离,标刻出一个闭合的矩形沟槽,清洗后烘干备用。
3.按照权利要求2所述的方法,其特征在于所述芯片四周与边缘保持的距离为0.5mm。
4.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述预制焊料为金锡焊料或锡银焊料。
5.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述真空烧结炉中进行钎焊的具体过程是:第一步预热,先对焊接件和工装进行整体加热,将温度提高到比钎料熔点略低时,保持20s,使焊件各部分温度保持一致;第二步焊接,按照工艺温度控制曲线快速加热,使焊件整体温度超过钎料熔点20℃左右,并保持10s,使钎料熔化并在芯片和外壳基座间充分扩散,一部分钎料在压力的作用下溢流出来,当向外扩散到引流槽时,溢出的多余钎料被限制在引流沟槽中,从而实现钎焊溢料的控制;第三步冷却,停止加热,使焊件冷却到室温,拆除压块等工装夹具,芯片钎焊完成。
6.按照权利要求5所述的方法,其特征在于所述工艺温度控制曲线中使用锡银焊料时,使钎料熔化的温度为275℃。
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