[发明专利]一种等离子刻蚀装置

权利要求书

1.一种等离子刻蚀装置，其特征在于，包括：真空腔体、上电极、下电极和上下电极运动装置；其中所述上电极和所述下电极均位于所述真空腔体内；所述上下电极运动装置包括传动杆和直线电机；

所述上电极由四个同心设置的环状电极构成，四个所述环状电极的上方分别对应连接有环形陶瓷片，所述环形陶瓷片分别通过连接杆连接有固定盘；四个所述环状电极由内而外依次为第一上电极、第二上电极、第三上电极和第四上电极；所述第一上电极上方对应设置的所述固定盘通过固定杆连接在所述真空腔体顶部；所述第二上电极、所述第三上电极和所述第四上电极上方对应设置的固定盘分别连接有所述传动杆，并且传动杆伸出至所述真空腔体顶板外与所述直线电机传动连接，使所述第二上电极、所述第三上电极和所述第四上电极能够上下移动；所述第一上电极、第二上电极、第三上电极和第四上电极外侧均环绕有用于提供反应气体的上电极绝缘充气环；所述第一上电极、第二上电极、第三上电极和第四上电极内部均设置有上下布置的上电极加热管路和上电极冷却管路；

所述下电极包括移动下电极和固定下电极，所述移动下电极为U型结构且位于所述固定下电极内构成圆形的所述下电极，所述移动下电极和所述固定下电极通过导线连接，使其成为同电位；所述固定下电极周边设置下电极绝缘充气环；所述移动下电极和所述固定下电极内部均设置有上下布置的下电极加热管路和下电极冷却管路；所述固定下电极通过支架固定在所述真空腔体底板上；所述真空腔体底板设置有抽真空口，所述真空腔体底部设置有底座，所述移动下电极通过传动杆与所述真空腔体底座内的直线电机传动连接，使所述移动下电极能够上下移动。

2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述第一上电极、所述第二上电极、所述第三上电极和所述第四上电极上连接的所述环形陶瓷片分别为第一环形陶瓷片、第二环形陶瓷片、第三环形陶瓷片和第四环形陶瓷片。

3.根据权利要求2所述的一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述第一环形陶瓷片、第二环形陶瓷片、第三环形陶瓷片和第四环形陶瓷片均通过三根所述连接杆与对应的所述固定盘连接。

4.根据权利要求3所述的一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述第一环形陶瓷片、第二环形陶瓷片、第三环形陶瓷片和第四环形陶瓷片上方对应设置的所述固定盘分别为第一固定盘、第二固定盘、第三固定盘和第四固定盘，所述第二固定盘、第三固定盘和第四固定盘上方均连接有三根传动杆，并且每根传动杆分别传动连接有直线电机，驱动同一所述固定盘的直线电机同步运动。

5.根据权利要求4所述的一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述第一上电极、所述第二上电极、所述第三上电极和所述第四上电极的所述上电极加热管路为环形布置的电热丝；所述移动下电极和所述固定下电极的所述下电极加热管路为波浪形布置的电热丝，所述上电极加热管路和所述下电极加热管路一侧均设置有温度传感器，四条所述上电极加热管路和两条所述下电极加热管路分别单独设置有PID控制器，四条所述上电极加热管路的温度传感器和电源线分别与对应的PID控制器电性连接构成上电极PID温度控制系统；两条所述下电极加热管路的温度传感器和电源线分别与对应的PID控制器电性连接构成下电极PID温度控制系统，所述上电极PID温度控制系统和所述下电极PID温度控制系统构成上下电极PID温度控制系统。

6.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述上电极冷却管路和所述下电极冷却管路通过冷却液循环管路与所述真空腔体外的循环装置连通，构成上下电极冷却系统。

7.根据权利要求1一种等离子刻蚀装置，其特征在于，所述上电极绝缘充气环与所述下电极绝缘充气环均通过供气管路与所述真空腔体外的气体供给装置连通，构成反应气体控制系统。