[发明专利]一种防紫外透明发电玻璃的结构及其制备方法在审
| 申请号： | 201811443837.8 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111326596A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 刘生忠;焦玉骁;王辉;曹越先;杜敏永;段连杰;孙友名;王开;秦炜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | H01L31/07 | 分类号： | H01L31/07;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 透明 发电 玻璃 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种防紫外透明发电玻璃，其特征在于，发电玻璃包括依次层叠的负极(1)、光吸收层(2)、正极(3)。
2.根据权利要求1所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于，所述的光吸收(2)包括ZnO层，以及氧化镍层或是氧化镍等中的一种或二种以上过渡金属氧化物材料。
3.根据权利要求2所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于所述的光吸收(2)包括ZnO层，以及NiOx层或是WOx等中的一种或二种以上过渡金属氧化物薄膜可以用旋涂法，热蒸发法、溅射法或热氧化法中的一种或二种以上制备。
4.根据权利要求1所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于，所述FTO厚度为20-1000nm,方阻为5-100Ω/□。
5.根据权利要求1所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于光吸收层中ZnO的厚度为50nm-500nm,氧化镍或氧化钨的厚度为10nm-100nm。
6.根据权利要求1所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于，所述透明电极，可以是氧化铟锡(ITO),掺杂二氧化锡(FTO),铟镓锌氧化物(IGZO)和石墨烯及其衍生物中的至少一种。
7.根据权利要求1-6任一所述的防紫外透明发电玻璃，其特征在于，所述光吸收层对波长范围小于405nm的紫外光波段有吸收。
8.一种权利要求1-7任一所述的防紫外透明发电玻璃的结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一、在玻璃上利用旋涂或磁控溅射技术生长FTO；
步骤二、在FTO上利用溶液法、磁控溅射或热蒸发法沉积光吸收层，可包括氧化锌，氧化镍或氧化钨等过渡金属氧化物材料、
步骤三、在光吸收层上制备透明导电电极，可以是氧化铟锡(ITO),掺杂二氧化锡(FTO),铟镓锌氧化物(IGZO)和石墨烯及其衍生物中的至少一种。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
