[发明专利]低含水率隔离膜及其制造方法

权利要求书

1.一种低含水率隔离膜，其特征在于，其包含：

基材，其具有多孔结构；以及

耐热层，其设置于该基材的至少一个侧面上且该耐热层包含黏合剂及无机微粒；

其中，该隔离膜经钝化处理后的含水率低于1800ppm，且在露点低至-30℃下时不会产生翘曲；其中，该钝化处理是以金属卤化物水溶液涂覆该耐热层，该金属卤化物包含碱金属卤化物、碱土金属卤化物或铜卤化物。

2.根据权利要求1所述的低含水率隔离膜，其特征在于，该金属卤化物为选自溴化钠、碘化钾、氯化镁、氯化锶、氯化钙、溴化锶以及氯化铜的至少之一或其任意组合。

3.根据权利要求1所述的低含水率隔离膜，其特征在于，该基材为含聚烯烃、聚酯或聚酰胺的单层多孔结构基材；或者

该基材为含聚烯烃、聚酯或聚酰胺的多层多孔结构基材。

4.根据权利要求1所述的低含水率隔离膜，其特征在于，该耐热层的厚度介于1微米至5微米间。

5.根据权利要求1所述的低含水率隔离膜，其特征在于，该耐热层的该无机微粒为选自氧化铝、二氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化镁、氧化铈、氧化钇、氧化锑、氧化锡、氮化硅、氮化钛、氮化硼、碳化硅、碳酸钙、硅酸钙、硅酸镁、硫酸铝、硫酸钡、勃母石、高岭土、云母以及氢氧化镁的至少之一或其任意组合。

6.根据权利要求1所述的低含水率隔离膜，其特征在于，该耐热层的黏合剂为选自聚甲基丙烯酸酯、聚丁基丙烯酸酯、聚丙烯腈、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、共聚乙烯醋酸乙烯、聚乙烯氧化物、聚芳酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、丁苯橡胶、羧甲基纤维素以及聚丙烯酸的至少之一或其任意组合。

7.一种制造低含水率隔离膜的制造方法，其特征在于，其包含：

提供具耐热层的隔离膜，该耐热层位于多孔基材的一个侧面或两个侧面且该耐热层含有无机微粒及黏合剂；

对该具耐热层的隔离膜进行钝化处理；及

以去离子水清洗钝化处理过的隔离膜；

其中，该钝化处理是以金属卤化物水溶液涂覆该耐热层，该金属卤化物包含碱金属卤化物、碱土金属卤化物或铜卤化物。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，该金属卤化物为选自溴化钠、碘化钾、氯化镁、氯化锶、氯化钙、溴化锶以及氯化铜的至少之一或其任意组合。