[发明专利]一种有机硅组合物及反应产物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种有机硅组合物，其特征在于，所述有机硅组合物由如下成分组成：

含Si-H官能的聚硅氧烷，

含不饱和烃基的化合物，

光引发剂，

0～95wt％的有机溶剂和/或0～50wt％的添加剂；

所述光引发剂为自由基型光引发剂，在紫外光源照射下引发组合物中的Si-H官能与不饱和烃基发生硅氢加成反应；

所述光引发剂不含有金属元素，在有机硅组合物中的含量为0.01～10wt％，选自苯偶姻醚类、苯偶酰缩酮类、苯乙酮类、二苯甲酮和胺类化合物、硫杂蒽酮类、樟脑醌和双咪唑及所述各类物质的衍生物中的一种或多种；

含Si-H结构的聚硅氧烷与含不饱和烃基的化合物中，均不含有丙烯酸酯基团和环氧基团；

所述添加剂选自抗氧剂，消泡剂，流平剂，填料，阻燃剂或稳定剂中的一种或几种。

2.根据权利要求1所述的有机硅组合物，其特征在于，所述含Si-H官能聚硅氧烷平均每分子具有至少一个与硅键合的氢原子；所述含不饱和烃基的化合物平均每分子具有至少一个可发生硅氢加成反应的烯烃基团或炔烃基团。

3.根据权利要求2所述的有机硅组合物，其特征在于，所述含Si-H官能聚硅氧烷为含Si-H结构的线型聚硅氧烷，含Si-H结构的聚倍半硅氧烷或含Si-H结构的线型聚硅氧烷与聚倍半硅氧烷的共聚物中的一种或几种。

4.根据权利要求2所述的有机硅组合物，其特征在于，所述含不饱和烃基的化合物选自含不饱和烃基的小分子化合物或聚合物，所述聚合物包括如式(Ⅰ)，(Ⅱ)，(Ⅲ)或(Ⅳ)所示的结构：

式(Ⅰ)和(Ⅱ)中，B₁、B₂、B₃、B₄、R₁、R₂、R₃、R₄、Z₁、Z₂相同或不同，并且至少有一个为不饱和烃基；

式(Ⅲ)中，A₁、A₂、A₃、A₄相同或不同，并且至少有一个为不饱和烃基；

式(Ⅳ)中，E₁、E₂、E₃相同或不同，并且至少有一个为不饱和烃基；其中波折链段为聚硅氧烷链段；

式(Ⅰ)，(Ⅱ)，(Ⅲ)和(Ⅳ)中，m、n彼此独立地为1～1000的整数，k≥1；所述有机硅组合物中，Si-H官能团与不饱和烃基团的摩尔比为0.01～100:1。

5.根据权利要求4所述的有机硅组合物，其特征在于，式(Ⅰ)和(Ⅱ)中，B₁、B₂、B₃、B₄、R₁、R₂、R₃、R₄、Z₁、Z₂中的不饱和烃基为乙烯基或乙炔基，B₁、B₂、B₃、B₄、R₁、R₂、R₃、R₄、Z₁、Z₂中还包括氢基；式(Ⅲ)中，A₁、A₂、A₃、A₄中的不饱和烃基为乙烯基或乙炔基，A₁、A₂、A₃、A₄中还包括氢基；式(Ⅳ)中，E₁、E₂、E₃中的不饱和烃基为乙烯基或乙炔基，E₁、E₂、E₃中还包括氢基。