[发明专利]平流沉淀池和平流沉淀池系统在审

专利信息
申请号: 201811434562.1 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109529411A 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 任向锋;姚宁;谢正威;张玉龙;王筱菊;刘亮 申请(专利权)人: 北京市水利规划设计研究院
主分类号: B01D21/00 分类号: B01D21/00;B01D21/04;B01D21/18;B01D21/24
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;王晓晓
地址: 100048 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 平流沉淀池 沉淀池 出水口 集水槽 沉淀 沉淀颗粒 沉淀效率 水流动 减小 排出 水面
【权利要求书】:

1.一种平流沉淀池,该平流沉淀池含有水并具有出水口,其特征在于,该平流沉淀池包括:

集水槽,该集水槽连接所述出水口,并部分设置在所述平流沉淀池的水面下,用于在所述平流沉淀池的水流动的过程中对水进行收集,并通过所述出水口排出,以缩短沉淀颗粒的沉淀路径的水平长度。

2.根据权利要求1所述的平流沉淀池,其特征在于,所述集水槽位于所述沉淀颗粒的沉淀路径的上方区域。

3.根据权利要求1所述的平流沉淀池,其特征在于,所述集水槽的长度为所述平流沉淀池的长度的四分之三。

4.根据权利要求1所述的平流沉淀池,其特征在于,所述集水槽的长度通过以下公式得到:

其中,r为所述集水槽的收水率,v为所述沉淀颗粒的初始水平流速,H为沉淀池有效水深,h为所述集水槽在水面下的深度,u0为临界颗粒沉速。

5.根据权利要求1所述的平流沉淀池,其特征在于,所述集水槽设置在所述平流沉淀池的两边侧壁上。

6.根据权利要求1所述的平流沉淀池,其特征在于,所述出水口位于所述平流沉淀池的水面上。

7.一种平流沉淀池系统,其特征在于,该系统包括:

刮泥装置,用于对所述平流沉淀池的池底进行刮泥;以及

权利要求1-6中任意一项权利要求所述的平流沉淀池。

8.根据权利要求7所述的平流沉淀池系统,其特征在于,所述刮泥装置具有刮板,以控制所述刮板移动。

9.根据权利要求8所述的平流沉淀池系统,其特征在于,所述刮板的移动范围位于所述集水槽的下方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京市水利规划设计研究院,未经北京市水利规划设计研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811434562.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top