[发明专利]一种非充分灌溉实验栽培装置

说明书

本发明公开了一种非充分灌溉实验栽培装置，包括漏斗、栽培桶，栽培桶上螺旋式分布四根渗水管，渗水管上方末端与两通接口相连，两通接口与可进行拆卸的输水管相连，输水管分别与五通接口相连，五通接口与漏斗相连，渗水孔均匀分布于四根渗水管上，排气管、渗水管下方末端连接栽培桶底部三通接口。本发明可以使栽培桶中水分快速达到平衡，同时使水分分布更加均匀，既满足了非充分灌溉栽培实验对水分精准控制的要求，又提高了非充分灌溉实验效率，确保了实验数据的准确性与实验结果的科学性。

技术领域

本发明属于灌溉装置领域，涉及一种非充分灌溉实验栽培桶及灌水装置。

背景技术

在盆栽实验中，其灌溉方式主要分为直接浇灌与管子插灌两种方式。对于直接浇灌，基质(例如，土体)上层含水率很大，远远超过了田间持水量，而下层基质含水率则随着深度增加逐渐减小，这样就造成了整个基质的水分分布均匀度差，难以满足非充分灌溉实验的基本要求；同时由于水分的下渗与平衡过程需要相当长的时间，表层的大量水分会因蒸发而损失掉，严重影响了非充分灌溉实验(例如，不同梯度干旱实验)中基质水分控制的准确性与精度。对于管子插灌，这是一种将管子插入基质中进行灌溉的方式，这种方式的优点是从基质中进行灌水，从而避免了因表层蒸发而造成的水分损失。但是缺点是基质中管口处周围首先达到湿润，含水率很高，远远超过了田间持水量，且这种湿润只是局部的，要达到整个基质的水分均匀分布也需要很长的时间。

中国专利CN207820539U公开了一种根层渗灌施肥系统，采用在主管上布置螺旋状排列的多个支管的手段，解决了喷灌、滴灌无法对植物根部有效灌溉、施肥的问题，并通过回收避免浪费，一定程度上加快了水肥在植物根系部位的分散，但是依旧无法实现非充分灌溉条件下整个基质中水分的快速均匀分布，而且支管较主管的管径减小，增加了流动阻力，需要使用额外的泵送措施才能确保水肥可以经渗灌管网达到灌溉位置。

中国专利CN205727247U公开了一种能够自动浇水的盆栽盆，在盆体种植区底部布设螺旋盘绕的渗水管，并与种植区一侧的蓄水区连通，解决了自动、可调浇灌问题，但是由于渗水管位于种植区底部，所以无法实现在整个基质中水分的快速均匀分布。

为了克服在非充分灌溉实验中，目前的灌溉方式灌溉后基质内水分分布不均匀，并且水分达到平衡所需时间过长等缺陷，亟待提出一种可以在整个基质中实现水分的快速均匀分布的非充分灌溉实验栽培装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种非充分灌溉实验栽培装置，可以减少灌水时间，使基质中水分快速达到平衡，同时使基质中的水分分布更加均匀。

为达到上述目的，本发明采用了以下技术方案：

包括栽培桶以及沿栽培桶侧壁分层布置的渗水孔，渗水孔每层布置多个，布置的所有渗水孔中任意两个渗水孔在栽培桶周向上相间隔(即在周向上相互错开位置)，所述栽培桶布置有渗水孔的区段与栽培桶的任意端(顶部桶口、桶底)之间相隔一定的距离(具体距离可根据控制或避免基质表面灌溉水分蒸发损失及灌溉水分在桶底累积对基质中水分均匀分布的影响而定)，栽培桶上设置有排气口以及与渗水孔相连通的进水口。

优选的，所述栽培桶包括桶体以及设置于桶体侧壁内外壁面之间空隙内的多个平行排布的渗水管，渗水管的两端向桶体的对应端以螺旋方式延伸，渗水孔间隔设置在渗水管上，渗水孔与桶体内部相连通。

优选的，所述渗水管的下端与设置于桶体下端的环状排气管(可以在桶体内)相连，环状排气管与排气口相连。

优选的，所述排气口位于桶体的上端面上，排气口上设置有排气组件。

优选的，所述环状排气管包括用于连接渗水管的三通接口。

优选的，所述进水口包括位于桶体上方的漏斗，漏斗的直管段开口处设置有多通接口，多通接口的对应接口端设置有输水管，各输水管通过设置于桶体上端面处(例如，两通接口位于桶体上部的桶体侧壁内外壁面之间)的两通接口与对应渗水管相连。