[发明专利]一种新型四氯化锗用水解装置

说明书

本发明属于二氧化锗生产设备技术领域，提供了一种新型四氯化锗用水解装置，包括反应釜本体和支撑架，所述反应釜本体的上部设置第一进料筒，所述第一进料筒的外壁设置第一刻度线；所述反应釜本体的上部设置第二进料筒，且所述第一进料筒的直径小于所述第二进料筒的直径；所述第二进料筒的外壁设置第二刻度线；所述反应釜本体的端部设置出气管，所述出气管的一端连接废气吸收筒，所述废气吸收筒的上部设置进水管，所述废气吸收筒的外壁设置排气管，所述搅拌机构包括电机、联轴器、转动轴、轴承和搅拌板。本发明提供的一种新型四氯化锗用水解装置，便于控制四氯化锗与超纯水的比例，保障生产的二氧化锗粒径和纯度。

技术领域

本发明涉及二氧化锗生产设备技术领域，具体涉及一种新型四氯化锗用水解装置。

背景技术

锗是高纯半导体的基本原料，从锗精矿中提取锗的普遍方法是采用氯化蒸馏方法，具体是在锗精矿中加入盐酸进行蒸馏，锗以气态的四氯化锗的形式挥发而与其他杂志分离；

四氯化锗与超纯水的反应称之为四氯化锗的水解反应，这是制备锗金属的关键工艺，四氯化锗与水反应生成盐酸和二氧化锗固态物质，由于四氯化锗与超纯水的混合程度直接控制着二氧化锗的粒径和纯度，必须严格控制四氯化锗与超纯水的比例，但是现有技术中没有相关装置。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种新型四氯化锗用水解装置，便于控制四氯化锗与超纯水的比例，保障生产的二氧化锗粒径和纯度。

为达到上述目的，本发明采用如下的技术方案：

一种新型四氯化锗用水解装置，包括反应釜本体和支撑架，所述支撑架的上部设置所述反应釜本体；所述支撑架包括竖支管和上支板，所述竖支管设置于所述上支板的下部；所述反应釜本体的下部设置出料口，所述出料口的下部设置盖板；

所述反应釜本体的上部设置第一进料筒，所述第一进料筒的外壁设置第一刻度线，所述第一刻度线设置有若干，且所述第一刻度线沿所述第一进料筒的长度方向依次设置；所述第一进料筒的上部设置第一密封盖；

所述反应釜本体的上部设置第二进料筒，且所述第一进料筒的直径小于所述第二进料筒的直径；所述第二进料筒的外壁设置第二刻度线，所述第二刻度线设置有若干，且所述第二刻度线沿所述第二进料筒的长度方向依次设置；所述第二进料筒的上部设置第二密封盖；

所述反应釜本体的端部设置出气管，所述出气管的一端连接废气吸收筒，所述废气吸收筒的上部设置进水管，所述废气吸收筒的内部设置浓度传感器，所述废气吸收筒的外壁设置显示屏，所述显示屏和所述浓度传感器串接，所述废气吸收筒的外壁设置排气管；

所述上支板的上部设置搅拌机构，所述搅拌机构包括电机、联轴器、转动轴、轴承和搅拌板，所述电机设置于所述上支板的上部，所述联轴器的两端分别连接所述电机和所述转动轴；所述轴承设置于所述反应釜本体的侧边，所述转动轴的一端贯穿所述轴承至所述反应釜本体内；所述搅拌板设置有若干，且所述搅拌板沿所述转动轴的外壁依次环绕交错设置。

作为一种改进的技术方案，所述第一密封盖和所述第二密封盖的底部均设置密封垫，所述密封垫为硅橡胶材质构件。

作为一种改进的技术方案，所述反应釜本体的外壁设置计时器，所述计时器的上部设置开关。

作为一种改进的技术方案，所述计时器的上部设置警报灯，所述警报灯和所述计时器串接设置。

作为一种改进的技术方案，所述反应釜本体的上部设置延伸管，所述延伸管的上部设置照明灯。

作为一种改进的技术方案，所述反应釜本体的的外壁设置观察窗，所述观察窗为有机玻璃材质构件。

作为一种改进的技术方案，所述电机的底部设置减震垫，所述减震垫为橡胶材质构件。