[发明专利]废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法有效

专利信息
申请号: 201811414708.6 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN109536037B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 罗天纵;吴希桃;包新军;王志坚;夏楚平;兰石琨;翁国庆;陈建波;谢振山;李义伟;胡婷 申请(专利权)人: 湖南稀土金属材料研究院
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 黄晓庆
地址: 410011 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 废弃 稀土 抛光 粉中硅铝 杂质 脱除 方法
【说明书】:

本申请涉及一种废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法,包括以下步骤:提供含硅铝杂质的废弃稀土抛光粉;将该废弃稀土抛光粉和碱液在研磨介质作用下混合,得到浆料;在搅拌条件下,将浆料加热至50℃~80℃,过滤,得到脱除硅铝杂质的稀土抛光粉。上述废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法,通过将废弃稀土抛光粉和碱液在研磨介质作用下混合,可利用研磨介质的机械作用,使碱液与废弃稀土抛光粉充分接触,并使废弃稀土抛光粉中包覆在稀土氧化物表面的硅铝杂质脱落,从而加快后续浸出反应的进行,缩短反应时间,提高浸出效率,达到减少碱液用量、降低能耗的目的。

技术领域

发明涉及稀土资源回收利用技术领域,特别是涉及一种废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法。

背景技术

稀土抛光粉是一种优良的研磨抛光材料,主要成分是氧化铈,广泛应用于玻璃、显示屏、电子元件等器件的研磨抛光。据统计,2016年国内稀土抛光粉的产量达到2.2万吨左右,稀土抛光粉的年产量以每年10%~20%的速度增长。稀土抛光粉经过研磨抛光后,抛光切削产生的微粒富聚包裹到稀土氧化物表面,阻碍了基体与抛光粉颗粒的接触,降低了抛光粉的摩擦热、降低了玻璃表面产生的塑性变形,从而影响基体表面的平整过程;切削产生的大颗粒等异物混入抛光浆料中,降低了稀土氧化物的含量,杂质异物含量的增加使得抛光效率降低,还会使抛光工件表面的划痕量增加。每年收集堆放产生的废弃稀土抛光粉约为稀土抛光粉产量的80%,经研磨抛光失效后的稀土抛光粉中稀土元素的含量一般在40%以上,废弃稀土抛光粉是具有回收价值的稀土资源。废弃稀土抛光粉中的杂质包括抛光过程中带入的被抛光工件碎屑、抛光垫碎屑、抛光添加剂等,主要杂质为硅铝杂质。硅铝杂质对废弃抛光粉的回收和再利用有显著的影响,其影响主要表现在:在酸浸出过程中,硅铝杂质易形成絮状硅胶,影响浸出率,耗酸量增加,同时增加了后续的萃取分离稀土元素的难度,导致稀土抛光粉的回收效率较低,回收带来的经济价值低。

碱焙烧是一种脱除废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的方法。有现有技术公开了将废弃稀土抛光粉与碱加水调浆,经350~650℃焙烧30~120min,水洗、过滤除去硅铝杂质等杂质。碱焙烧法耗能较大,且碱焙烧脱除硅铝杂质的效果受混料均匀程度的制约,焙烧后的样品易板结,后续处理较为困难。

还有现有技术公开了在废弃稀土抛光粉中加入水溶性氟化物和/或碱,加热搅拌一定时间后,通过沉降、清洗和过滤工序,回收固体;将回收的固体再进一步热处理后冷却到室温,球磨,稀土抛光粉的回收率为70%~80%。该方法需要较长的搅拌时间,以使废弃稀土抛光粉与料液充分反应,溶解废弃稀土抛光粉中的杂质,且回收后的粉体仍需要进行后续热处理等工艺。

此外,还有现有技术公开了在85~95℃,采用0.25mol/L~1.75mol/L的碱溶液浸出废弃稀土抛光粉,浸出反应时间为65min~105min,将混合液冷却至室温,过滤,得到脱除硅铝杂质的稀土抛光粉。碱液中的碱与稀土抛光粉的质量比为0.75~1.5。该方法处理废弃稀土抛光粉,液固比较大,需求水量较多,产生大量废弃碱液需要处理。

发明内容

基于此,有必要提供一种能有效降低能耗、缩短反应时间、减少碱液用量的废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法,具体方案如下:

一种废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法,包括以下步骤:

提供含硅铝杂质的废弃稀土抛光粉;

将所述废弃稀土抛光粉和碱液在研磨介质作用下混合,得到浆料;

在搅拌条件下,将所述浆料加热至50℃~80℃,过滤,得到脱除硅铝杂质的稀土抛光粉。

上述废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法,通过将废弃稀土抛光粉和碱液在研磨介质作用下混合,可利用研磨介质的机械作用,使碱液与废弃稀土抛光粉充分接触,并使废弃稀土抛光粉中包覆在稀土氧化物表面的硅铝杂质脱落,从而加快后续浸出反应的进行,缩短反应时间,提高浸出效率,达到减少碱液用量、降低能耗的目的。

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