[发明专利]自组装表面活性剂结构

权利要求书

1.一种膜，所述膜包含结合于多孔支持体的表面的稳定化的表面活性剂介观结构。

2.权利要求1所述的膜，其中所述稳定化的表面活性剂介观结构用保持表面活性剂分子的排列的材料稳定化。

3.权利要求2所述的膜，其中所述材料是多孔的并且所述稳定化的表面活性剂介观结构包含与包含所述多孔材料的薄片交替的薄片。

4.权利要求2所述的膜，其中所述材料是非多孔的并且所述稳定化的表面活性剂介观结构包含六角堆积柱，所述六角堆积柱包含成圆形排列的表面活性剂分子，所述柱的每一个基本上被所述非多孔材料环绕。

5.权利要求1所述的膜，所述膜还包含设置在所述稳定化的表面活性剂介观结构与所述表面之间的、用于保持所述稳定化的表面活性剂介观结构中的表面活性剂与所述表面之间的氢键网络的材料。

6.权利要求5所述的膜，其中所述材料包括选自由以下各项组成的组的材料：硅烷、有机物、无机物、金属、金属氧化物、烷基硅烷、钙和二氧化硅。

7.权利要求1所述的膜，其中在所述稳定化的表面活性剂介观结构结合在所述表面之前，所述表面已经被氧化、熔化和再凝固。

8.权利要求7所述的膜，其中所述再凝固表面处的平均孔径小于所述多孔支持体的主体中的平均孔径。

9.权利要求1所述的膜，其中所述多孔支持体的孔径足够小以防止所述稳定化的表面活性剂介观结构的前体溶液在稳定化的表面活性剂介观结构的形成之前完全渗入所述支持体。

10.权利要求1所述的膜，所述膜还包含设置在所述多孔支持体的所述表面相反的一侧上的另外的多孔结构，用于机械或化学稳定化所述多孔支持体。

11.权利要求1所述的膜，其中所述稳定化的表面活性剂介观结构包含输送体。

12.权利要求1所述的膜，所述膜还包含第二多孔支持体，其中所述稳定化的表面活性剂介观结构夹在所述多孔支持体与所述第二多孔支持体之间。

13.权利要求1所述的膜，所述膜具有小于大约1.09的曲率。

14.权利要求1所述的膜，其中所述稳定化的表面活性剂介观结构具有大约0.3埃至大约4nm的孔径。

15.权利要求1所述的膜，所述膜具有大于大约1％的孔隙率。

16.权利要求1所述的膜，其中所述多孔支持体包含塑料和/或纤维素。

17.权利要求1所述的膜，其中所述多孔支持体机械地稳定化所述稳定化的表面活性剂介观结构。

18.权利要求1所述的膜，所述膜还包含结合于所述多孔支持体的所述表面相反一侧的第二稳定化的表面活性剂介观结构。

19.权利要求1所述的膜，所述膜与其他权利要求1所述的膜层叠，从而形成多层膜。

20.权利要求1所述的膜，其中所述稳定化的表面活性剂介观结构的表面被改性。

21.权利要求1所述的膜，所述膜包含离子交换膜和/或气体扩散层，所述膜包含膜电极组件或电解质。