[发明专利]一种低毒性反溶剂制备Br基钙钛矿薄膜的方法及其应用在审

专利信息
申请号: 201811410408.0 申请日: 2018-11-23
公开(公告)号: CN109686841A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 徐凌波;崔灿;车思远 申请(专利权)人: 浙江理工大学上虞工业技术研究院有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/50
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 黄欢娣;邱启旺
地址: 312399 浙江省绍兴市上虞区曹*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 反溶剂 钙钛矿薄膜 低毒性 薄膜 材料内部缺陷 制备钙钛矿 发光效率 乙酸乙酯 发光层 钙钛矿 滴加 多晶 基钙 旋涂 钛矿 制备 应用
【权利要求书】:

1.一种低毒性反溶剂制备Br基钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:该方法为:在钙钛矿前驱体溶液旋涂过程中滴加反溶剂乙酸乙酯,加热退火后得到钙钛矿薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述钙钛矿或为MAPbBr3或CsPbBr3

3.权利要求1所述方法制备得到的Br基钙钛矿薄膜在钙钛矿LED中的应用。

4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,所述钙钛矿LED的结构包括:透明导电衬底、空穴传输层、权利要求1所述方法制备得到的钙钛矿薄膜、电子传输层和金属电极。

5.根据权利要求3所述的应用,其特征在于:所述的透明导电衬底可以是FTO、ITO、AZO等透明导电玻璃。

6.根据权利要求3所述的应用,其特征在于:所述的空穴传输层可以是NiO、PEDOT:PSS、CBP、Spiro-oMeTAD等。

7.根据权利要求3所述的应用,其特征在于:所述的电子传输层可以是TPBi、BCP、ZnO、F8、TiO2等。

8.根据权利要求3所述的应用,其特征在于:所述的金属电极可以是金、银、铝、钙、镍、钛、钠等。

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