[发明专利]一种陶瓷用的中间釉

说明书

本发明提供了一种陶瓷用的中间釉，所述中间釉在施釉时的浓度达到68°～72°Be，且在施釉时，其煅烧温度的范围在1120℃～1150℃，且所述中间釉的配料范围如下：SiO₂：51.0～51.5、Al₂O₃：7.8～8.0、K₂O：5.5～5.7、Na₂O：1.9～2.0、CaO：10.4～10.6、MgO：1.8～2.0、P₂O₅：0.9～1.1、B₂O₃：1.4～1.5、ZnO：9.0～9.1、ZrO₂：9.5～9.7。本发明的中间釉，烧成后的釉面光洁、柔和、无堆积釉或流釉挂釉现象、无细毛孔。

技术领域

本发明主要涉及陶瓷釉的技术领域，具体涉及一种陶瓷用的中间釉。

背景技术

釉是一种硅酸盐，陶瓷器上所施的釉一般以石英、长石、粘土为原料，经研磨、加水调制后，涂敷于坯体表面，经一定温度的焙烧而熔融，温度下降时，形成陶瓷表面的玻璃质薄层。它使陶瓷器增加机械强度、热稳定性、介电强度和防止液体、气体的侵蚀。釉还有增加瓷器美观和便于洗拭、不被尘土粘染等作用。在现有的陶瓷生产中，普通坯体上中温色釉釉烧后缺陷较多，如坯孔、釉面不光洁、釉针孔、色泽暗沉、乃至剥釉、釉裂等，合格率低，产品档次低。行业内一般采取坯体上化妆土后施釉来解决这一问题。但化妆土本身也是泥料，熔融性能差，对于坯体上许多瑕疵未能完全遮盖，且易开裂，易剥落，不易与釉结合等，极易造成产品的不良品率提高。

发明内容

本发明主要提供了一种陶瓷用的中间釉，有以解决上述背景技术中提出的技术问题。

本发明解决上述技术问题采用的技术方案为：

一种陶瓷用的中间釉，所述中间釉在施釉时的浓度达到68°～72°Be，且在施釉时，其煅烧温度的范围在1120℃～1150℃。

进一步的，所述中间釉的配料范围如下：SiO₂：51.0～51.5、Al₂O₃：7.8～8.0、K₂O：5.5～5.7、Na₂O：1.9～2.0、CaO：10.4～10.6、MgO：1.8～2.0、P₂O₅：0.9～1.1、B₂O₃：1.4～1.5、ZnO：9.0～9.1、ZrO₂：9.5～9.7。

进一步的，所述中间釉内各成分的质量占比如下：SiO₂：51.0、Al₂O₃：7.8、K₂O：5.5、Na₂O：1.9、CaO：10.4、MgO：1.8、P₂O₅：0.9、B₂O₃：1.4、ZnO：9.0、ZrO₂：9.5。

进一步的，SiO₂：51.5、Al₂O₃：8.0、K₂O：5.7、Na₂O：2.0、CaO：10.6、MgO：2.0、P2O5：1.1、B2O3：1.5、ZnO：9.1、ZrO₂：9.7。

SiO₂：二氧化硅，化学术语，纯的二氧化硅无色，常温下为固体，不溶于水，不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种，二氧化硅用途很广泛，主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等，一般的石头主要由二氧化硅、碳酸钙构成。