[发明专利]一种高效导热芯片基板结构及制备方法有效
申请号: | 201811395177.0 | 申请日: | 2018-11-22 |
公开(公告)号: | CN109585399B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 赵立霞;唐晔;明宪良;汪小明 | 申请(专利权)人: | 北京遥感设备研究所 |
主分类号: | H01L23/373 | 分类号: | H01L23/373;H01L23/473;H01L21/48 |
代理公司: | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人: | 葛鹏 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 导热 芯片 板结 制备 方法 | ||
1.一种高效导热芯片基板结构,其特征在于,包括:基板导热层、基板封装层,还包括:金属化传导热网,其中,金属化热传导网由金属热点阵列和金属扩热膜构成;
所述基板导热层通过刻蚀形成微流道,在微流道的顶部形成通孔阵列,在基板导热层的微流道顶部表面的通孔阵列中形成金属热点阵列,在微流道的顶部形成金属扩热膜,金属热点阵列和金属扩热膜共同形成金属化热传导网。
2.根据权利要求1所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述基板导热层通过钎焊与基板封装层连接为一体。
3.根据权利要求1所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述基板导热层的厚度大于2mm。
4.根据权利要求1所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述微流道的深度为1.5mm。
5.根据权利要求1所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述通孔阵列的直径为0.5mm。
6.根据权利要求1所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述金属扩热膜的厚度为0.5mm。
7.根据权利要求2所述的高效导热芯片基板结构,其特征在于,所述基板封装层的厚度为1mm。
8.一种高效导热芯片基板结构的制备方法,其特征在于,包括:
使用玻璃材料制造基板导热层,通过刻蚀形成微流道,在微流道的顶部,刻蚀通孔阵列;通过沉积工艺,在基板导热层的微流道顶部表面的通孔阵列中进行紫铜的沉积,直到通孔阵列被完全填满形成金属热点阵列,在微流道的顶部形成金属扩热膜,金属热点阵列和金属扩热膜共同形成金属化热传导网。
9.根据权利要求8所述的高效导热芯片基板结构的制备方法,其特征在于,还包括将玻璃材料制成的基板封装层通过钎焊,与基板导热层连接为一体,实现微流道上下的密封。
10.根据权利要求9所述的高效导热芯片基板结构的制备方法,其特征在于,所述通孔阵列的直径为0.5mm。
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