[发明专利]用于显示装置的纹路识别方法、纹路检测芯片及显示装置有效
| 申请号: | 201811390463.8 | 申请日: | 2018-11-21 |
| 公开(公告)号: | CN109508683B | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
| 发明(设计)人: | 邓立凯;王海生;丁小梁;王鹏鹏;曹学友;张平;李扬冰;王佳斌;陈博;李亚鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 显示装置 纹路 识别 方法 检测 芯片 | ||
1.一种用于显示装置的纹路识别方法,其特征在于,所述显示装置包括:
可变掩膜结构,用于形成具有不同光线透过率的掩膜图案;所述可变掩膜结构包括:背光源以及位于所述背光源出光侧的液晶显示面板;
感光结构,包括多个感光元件,所述多个感光元件用于接收经由具有所述纹路的主体反射后穿过所述可变掩膜结构的光线;各所述感光元件位于显示区且位于所述液晶显示面板中的液晶层与所述背光源之间;
遮光层,位于所述感光元件与所述背光源之间,用于避免所述背光源出射的光直接射入到感光元件上;所述遮光层在所述液晶显示面板的正投影覆盖各所述感光元件在所述液晶显示面板的正投影;所述液晶显示面板包括位于所述显示区的多个子像素,各所述感光元件在所述液晶显示面板的正投影和所述遮光层在所述液晶显示面板的正投影分别与各所述子像素在所述液晶显示面板的正投影不交叠;
所述纹路识别方法包括,
控制所述可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案;
检测各所述感光元件产生的电信号,根据所述电信号获取纹路图像信息。
2.如权利要求1所述的纹路识别方法,其特征在于,所述控制所述可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案,具体包括:控制所述可变掩膜结构形成包括透光区和完全不透光区的掩膜图案。
3.如权利要求1或2所述的纹路识别方法,其特征在于,所述电信号为电流信号;所述根据所述电信号获取纹路图像信息,具体包括:
将检测到的各所述感光元件产生的电流信号转换为模拟电压信号;
将各所述模拟电压信号经过模数转换后形成编码图像;
对所述编码图像进行解码,获取纹路图像信息。
4.如权利要求3所述的纹路识别方法,其特征在于,采用数字图像处理方法对所述编码图像进行解码。
5.如权利要求1或2所述的纹路识别方法,其特征在于,在所述控制所述可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案之前,还包括:获取所述显示装置中的被触摸区域;
所述控制所述可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案,具体包括:控制位于所述被触摸区域中的可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案。
6.如权利要求5所述的纹路识别方法,其特征在于,所述获取所述显示装置中的被触摸区域,具体包括:
获取各所述感光元件接收到的光线信息;
根据所述光线信息,确定光线分布信息;
根据所述光线分布信息,确定所述显示装置中的被触摸区域。
7.如权利要求5所述的纹路识别方法,其特征在于,所述获取所述显示装置中的被触摸区域,具体包括:
获取所述主体在触摸所述显示装置时,所述显示装置受到的压力的变化信息;
根据所述压力变化信息,确定所述显示装置中的被触摸区域。
8.如权利要求1或2所述的纹路识别方法,其特征在于,所述主体为手指。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:
可变掩膜结构,用于形成具有不同光线透过率的掩膜图案;所述可变掩膜结构包括:背光源以及位于所述背光源出光侧的液晶显示面板;
感光结构,包括多个感光元件,所述多个感光元件用于接收经由具有纹路的主体反射后穿过所述可变掩膜结构的光线;各所述感光元件位于显示区且位于所述液晶显示面板中的液晶层与所述背光源之间;
控制模块,用于控制所述可变掩膜结构形成包括两种不同光线透过率的掩膜图案;
检测模块,用于检测各所述感光元件产生的电信号,根据所述电信号获取纹路图像信息;
遮光层,位于所述感光元件与所述背光源之间,用于避免所述背光源出射的光直接射入到感光元件上;所述遮光层在所述液晶显示面板的正投影覆盖各所述感光元件在所述液晶显示面板的正投影;所述液晶显示面板包括位于所述显示区的多个子像素,各所述感光元件在所述液晶显示面板的正投影和所述遮光层在所述液晶显示面板的正投影分别与各所述子像素在所述液晶显示面板的正投影不交叠。
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