[发明专利]用于确定X射线照相系统的剂量率变化程度的方法和装置在审

专利信息
申请号: 201811375714.5 申请日: 2018-11-19
公开(公告)号: CN111195134A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 孙雷;陈鸣之;张欣宇 申请(专利权)人: 锐珂(上海)医疗器材有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01T1/02;H05G1/54
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李湘;郑冀之
地址: 200000 上海市浦东新区金*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 射线 照相 系统 剂量率 变化 程度 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于确定X射线照相系统的剂量率的变化程度的方法,其特征在于,包含下列步骤:

a)获取所述X射线照相系统的累计曝光次数;以及

b)利用预先确定的第一衰减函数,由所述累计曝光次数确定所述X射线照相系统的剂量率的变化程度,其中,所述第一衰减函数表示在与所述X射线照相系统相关联的使用环境下,剂量率随所述累计曝光次数的增加而减小的变化关系,并且所述第一衰减函数中的参数与所述使用环境有关。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述使用环境以一个或多个曝光参数组来表征,每个曝光参数组具有与所述第一衰减函数的形式相同或相似的第二衰减函数,所述第二衰减函数中的参数与所对应的曝光参数组有关,并且所述第一衰减函数中的参数由所述使用环境所包含的曝光参数组的第二衰减函数中的参数确定。

3.如权利要求2所述的方法,其中,所述第二衰减函数中的参数基于同种类型的X射线辐射源的历史使用数据确定。

4.如权利要求2所述的方法,其中,所述第一衰减函数为:

其中,dose(n)为累计曝光次数n时的剂量率,dose(n0)为基准曝光次数n0时的剂量率,αe为与所述使用环境有关的参数。

5.如权利要求4所述的方法,其中,所述第二衰减函数为:

其中,dose(ni)为第i个曝光参数组在累计曝光次数为ni时的剂量率,dose(ni0)为第i个曝光参数组的基准曝光次数时的剂量率,αie为与第i个曝光参数组有关的参数。

6.如权利要求5所述的方法,其中,所述参数αe依照下来方式确定:

获取所述使用环境的曝光参数组;以及

基于曝光参数组所对应的第二衰减函数的参数αie确定参数αe

7.如权利要求6所述的方法,其中,所述第一衰减函数中的参数αe被确定为各个曝光参数组的第二衰减函数中的参数αie的加权平均值,参数αie的权重为相应的曝光参数组在所述使用环境下的使用率。

8.如权利要求6所述的方法,其中,所述第一衰减函数中的参数αe被确定为各个曝光参数组的第二衰减函数中的参数αie的算术平均值。

9.如权利要求2所述的方法,其中,每个曝光参数组包括下列类型的参数中的至少一种:X射线管电压、X射线管电流和曝光时间。

10.如权利要求1所述的方法,其中,还包括下列步骤:

c)如果所述剂量率的变化程度在预设范围之外,则生成X射线管老化严重的提示信息。

11.一种用于确定X射线照相系统的剂量率的变化程度的装置,其包含存储器、处理器以及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,其特征在于,执行所述程序以实现如权利要求1-10中任意一项所述的方法。

12.一种X射线照相系统,其特征在于,包含:

X射线管;以及

如权利要求11所述的装置。

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