[发明专利]一种环形纳米叠层高分子材料制备装置

权利要求书

1.一种环形纳米叠层高分子材料制备装置，其特征在于：主要包括有熔融塑化供料装置、过渡器、环形叠层发生器和成型装置，熔融塑化供料装置、过渡器、环形叠层发生器和成型装置前后依次串联，熔融塑化供料装置将物料充分塑化并输送入过渡器，过渡器将来自熔融塑化供料装置的熔体的流动截面过渡为与环形叠层发生器入口截面相同的形状，并将熔体输送入环形叠层发生器；环形叠层发生器包含多组叠层单元，单组叠层单元的布置方式为环向布置，沿径向布置多组叠层单元；单个叠层单元入口截面形状为部分圆环形，出口也为部分圆环形且厚度减少弧长增加；熔体进入环形叠层发生器后由分流锥分为管状熔体，进一步被各个叠层单元分为多股熔体；熔体进入单元内部继续前进，在每个叠层单元中边前进边扭转，同时被展宽，厚度变薄；每组叠层单元中，相邻的两个层叠单元流体在出口处部分重叠形成两层的叠层效果，未重叠的部分将会与其他单元出口的熔体重叠，这样沿着环向依次传递形成整个熔体内的叠层效果；沿着径向的相邻组层叠单元的流体在出口处也会产生汇流，层数叠加。

2.根据权利要求1所述的一种环形纳米叠层高分子材料制备装置，其特征在于：径向包含多组叠层单元，则每个环形叠层装置熔体的层数为组数的两倍。

3.根据权利要求1所述的一种环形纳米叠层高分子材料制备装置，其特征在于：相邻的两个层叠单元流体在出口处部分重叠弧长为层叠单元流体出口弧长的一半。

4.根据权利要求1所述的一种环形纳米叠层高分子材料制备装置，其特征在于：相邻的两个层叠单元流体在出口处部分重叠弧长小于层叠单元流体出口弧长的一半，有部分熔体没有重叠，最终形成的熔体为部分重叠的，形成间隔重叠的结构。