[发明专利]一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法及制备的陶瓷连接件在审

专利信息
申请号: 201811360720.3 申请日: 2018-11-15
公开(公告)号: CN109437957A 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 郭伟明;吴利翔;朱林林;牛文彬;卫紫君;林锐霖;林华泰 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C04B37/00 分类号: C04B37/00
代理公司: 广东广信君达律师事务所 44329 代理人: 杨晓松
地址: 510062 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 化学气相渗透 浸渍 共晶相 陶瓷 瞬态 三明治结构 陶瓷连接件 混合粉体 造粒 制备 热处理 球磨介质 热处理炉 陶瓷连接 连接件 有机碳 抛光 溶剂 放入 粉体 硅烷 漏率 无压 铺展 掺杂
【说明书】:

发明属于陶瓷连接技术领域,公开了一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法及制备的陶瓷连接件,该方法先将SiC粉和Al2O3‑Re2O3混合后加入溶剂和球磨介质混合,干燥后得到混合粉体;将混合粉体进行造粒,将造粒后的粉体铺展在两块抛光后的SiC中间形成三明治结构;将三明治结构的样品放入热处理炉中,在真空或保护气氛下,升温至1000℃~1400℃进行热处理,再加入掺杂填料的有机碳硅烷在1300~1600℃进行化学气相渗透,得到SiC陶瓷的连接件。本发明通过纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的低温无压连接,连接处的漏率达到0~1×10‑10Pa·L/s。

技术领域

本发明属于陶瓷材料连接技术领域,更具体地,涉及一种纳米浸渍瞬态共晶相(NITE相)结合化学气相渗透(CVI)实现SiC陶瓷的连接方法及制备的陶瓷连接件。

背景技术

SiC陶瓷一般都具有耐高温、高硬度、抗磨损、耐腐蚀、高温强度高等优良特性,是汽车、机械、冶金和宇航等部门开发新技术的关键材料。此外,纯SiC材料因为其高热导率、抗中子辐照以及低中子吸收截面,可应用于核反应堆中的事故容错燃料。

然而,由于陶瓷材料的脆性和冲击韧度低,耐热冲击能力弱,因而其加工性能差,制造尺寸大而形状复杂的零件较为困难,因此需要通过陶瓷之间的连接技术来制取形状复杂的零部件。目前,在SiC陶瓷连接方法中,纳米浸渍瞬态共晶相连接的剪切强度最高,并且具有良好的抗腐蚀和抗中子辐照,然而,一般采用纳米浸渍瞬态共晶相时都需要高温高压,这对于事故容错燃料(是核反应堆中用来包裹核燃料的第一层保护材料,这种材料直接承受核反应堆中全部的中子辐照,也是最关键的一道防护罩)中包壳管和端塞连接来说是致命的缺陷。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的不足和缺点,本发明提供了一种纳米浸渍瞬态共晶相(NITE相)结合化学气相渗透(CVI)实现SiC陶瓷的连接方法。该方法采用预制多孔结构的连接坯体,再结合化学气相渗透法实现SiC连接的方法,极大地推动SiC陶瓷在核领域内的应用。

本发明的另一目的在于提供一种上述连接方法制得的SiC陶瓷的连接件。

本发明的再一目的在于提供一种上述SiC陶瓷的连接件的应用。

本发明的目的通过下述技术方案来实现:

一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法,包括如下具体步骤:

S1.将SiC粉和Al2O3-Re2O3混合后加入溶剂和球磨介质混合,干燥后得到混合粉体;所述Re为Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu;

S2.将混合粉体进行造粒,将造粒后的粉体铺展在两块抛光后的SiC中间形成三明治结构;

S3.将三明治结构的样品放入热处理炉中,在真空或保护气氛下,升温至1000℃~1400℃进行热处理,再加入掺杂填料的有机碳硅烷在1300~1600℃进行化学气相渗透,得到SiC陶瓷的连接件。

优选地,步骤S1中所述SiC粉的纯度为95~99.999%,所述SiC粉的粒径为10~100nm;所述Al2O3的纯度为95~99.999%,所述Al2O3的粒径为0.01~10μm;所述Re2O3的纯度为95~99.999%,所述Re2O3的粒径为0.01~10μm。

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