[发明专利]一种增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法

权利要求书

1.一种增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，包括以下步骤：

步骤一：制备打印材料：将气雾化球形纯钼粉与气雾化球形钴粉采用球磨工艺均匀混合得到钼钴混合粉末，其中钴粉添加量的质量百分比为5％；

步骤二：设定钼钴合金试样的加工工艺参数：激光光斑直径为75μm，激光功率为325W，扫描速度为400mm/s，扫描间距为60μm，采用Cross hatching扫描策略，逐层旋转激光扫描方向67°；

步骤三：成形室内气氛准备后，将成形基板加热至100℃，开始铺粉；

步骤四：将铺好的第一层钼钴混合粉末重熔两次后，开始加工；

步骤五：打印完成后，待试样冷却至室温后取出，用电火花线切割机将成形件从成形基板上分离；

所述步骤一中球磨工艺的参数为：球磨机转速为200r/min，球料比为1：1，球磨时间为20min；将混合均匀的钼钴混合粉末用200目的筛网筛粉，采用120±20℃的温度干燥48h，随炉冷却后再次用200目的筛网筛分，之后将粉末灌入选区激光熔化设备的储粉腔体中作为打印材料。

2.根据权利要求1所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，所述钼粉和钴粉的粒度均为13～53μm，所述钼基合金的化学成分为Mo-5Co。

3.根据权利要求1所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，成形室内为纯度99.9％的氩气，氧含量≤100ppm。

4.根据权利要求2所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，成形室内为纯度99.9％的氩气，氧含量≤100ppm。

5.根据权利要求1所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，所述成形基板材料为纯钼板，基板厚度为18mm，分层厚度为0.03mm。

6.根据权利要求2所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，所述成形基板材料为纯钼板，基板厚度为18mm，分层厚度为0.03mm。

7.根据权利要求3所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，所述成形基板材料为纯钼板，基板厚度为18mm，分层厚度为0.03mm。

8.根据权利要求4所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，所述成形基板材料为纯钼板，基板厚度为18mm，分层厚度为0.03mm。

9.根据权利要求1所述的增强抗氧化性钼基合金的选区激光熔化制备方法，其特征是，成型速度为2～30cm³/h，工作台重复定位精度为±10μm。