[发明专利]一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法

说明书

本发明公开了一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，具体按照以下步骤实施：步骤1，制备微弧氧化电解液；步骤2，对所述步骤1的微弧氧化电解液进行超生振荡以及高速搅拌；步骤3，将预处理后的零件浸入所述步骤2进行超生振荡以及高速搅拌后微弧氧化电解液中，进行微弧氧化处理，在零件的表面形成陶瓷膜；步骤4，对所述步骤3表面形成陶瓷膜的零件进行清洗干燥；步骤5，将清洗干燥后的零件进行封闭处理，完成在零件表面形成微弧氧化陶瓷膜；本发明通过特殊的微弧氧化电解液，降低了陶瓷膜层的摩擦系数，提高耐磨性能；对微弧氧化后的微孔进行封闭，有效防止膜层表面污染，提高其电绝缘性能。

技术领域

本发明属于微弧氧化技术领域，具体涉及一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法。

背景技术

微弧氧化是目前最有前景和高效的可提高镁合金抗腐蚀性能的表面处理方法之一，它通过使用不同的环境友好型电解液，在金属表面形成一层陶瓷层，提高金属零件的耐腐蚀性和使用寿命；微弧氧化是在阳极氧化的基础上发展而来的，是通过弧光放电的瞬时高温高压作用在金属表面原位生长出一层具有保护作用的陶瓷氧化膜，这层膜能在保证基体使用性能的前提下极大的改善金属的耐磨性、耐腐蚀性以及绝缘性。

但是传统的微弧氧化陶瓷膜层表面质量较差，从而降低了表面陶瓷层的耐磨性。

发明内容

本发明的目的是提供一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，通过特殊的微弧氧化电解液以及对微弧氧化后的微孔进行封闭，解决了现有微弧氧化表面质量差的问题。

本发明所采用的技术方案是，一种微弧氧化陶瓷膜的制备方法，具体按照以下步骤实施：

步骤1，制备微弧氧化电解液；

步骤2，对所述步骤1的微弧氧化电解液进行超生振荡以及高速搅拌；

步骤3，将预处理后的零件浸入所述步骤2进行超生振荡以及高速搅拌后微弧氧化电解液中，进行微弧氧化处理，在零件的表面形成陶瓷膜；

步骤4，对所述步骤3表面形成陶瓷膜的零件进行清洗干燥；

步骤5，将清洗干燥后的零件进行封闭处理，完成在零件表面形成微弧氧化陶瓷膜。

本发明的特点还在于，

所述步骤1制备微弧氧化电解液的具体实施方法为：

将硅酸盐、磷酸盐、氢氧化物和氧化铋混合，并通过去离子水溶解，再加入添加剂进行搅拌，制得微弧氧化电解液，所述添加剂中包含甘油和钨酸盐。

所述步骤2中的超生振荡5-50min。

所述步骤2中高速搅拌的速度为5500-20000r/min。

所述步骤3中对零件进行预处理的方法为：将零件进行打磨，待表面粗糙度为10-40um后，采用浓度为100-200g/L的硫酸溶液对零件进行浸泡1-3min，完成零件的预处理。

所述步骤3中微弧氧化处理的工艺参数为：在恒电流模式下，在温度为16-22℃下进行微弧氧化处理20-70min，其中，电流密度：0.8A/dm²-1.2A/dm²；频率：30-1000HZ；占空比：正向50％，负向50％；阴极：不锈钢板；

在整个微弧氧化的过程中，采用聚四氟循环冷却微弧氧化电解液。

所述步骤4对零件进行清洗和干燥的具体方法为：

使用流动的水清洗零件表面10-30min，之后采用压缩空气吹干零件表面。

所述步骤5对零件进行封闭处理的具体方法为：将表面形成陶瓷膜的零件置于耐压容器中，密封抽真空之后将封闭剂注入耐压容器中，之后解除真空，利用大气压将封闭剂压入微弧氧化陶瓷膜的微孔内，完成封闭。