[发明专利]防水性透明薄膜、防水性透明薄膜的制造方法、显示器和光学调整薄膜有效
申请号: | 201811346623.9 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN109955567B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 慈幸范洋;川上信之;矶村良幸;碇贺充;冲本忠雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社神户制钢所 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06;B32B27/16;B32B27/32;B32B27/36;B32B38/00;C23C16/50 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴克鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水性 透明 薄膜 制造 方法 显示器 光学 调整 | ||
1.一种防水性透明薄膜,其特征在于,是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜,
上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧,
在由X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上,上述氟原子含量在上述表面显示最大值,随着上述深度的增加而递减,
其中,由X射线光电子能谱法测定的氟原子相对于上述表层部的表面的碳原子、氟原子、氧原子和氮原子的合计的含有比为15%以上,
C1s窄带谱被分离成
(C-C,C-H)、
C-O、
(O-C=O,CHF)、
CFx(x=1~2)和
CFx(x=2~3)这5种峰,
由CFx(x=1~2)和CFx(x=2~3)的峰得到的CFx的结合状态的存在量相对于由上述5种峰得到的C全体的结合状态的存在量的比为8%以上。
2.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜,其中,上述氟原子的含有比在上述表层部的距表面深10nm处为5%以下。
3.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜,其中,在上述表层部氟含量比氧含量多。
4.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜,其中,在上述表层部的距表面深10nm以上,氟含量比氧含量少。
5.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜,其中,上述防水处理区域与上述防水处理区域外的总光线透射率的差在5%以内,雾度的差在1%以内,且透射光谱的黄色度b*的差在2以内。
6.根据权利要求1或权利要求5所述的防水性透明薄膜,其中,主成分是聚酯或聚烯烃。
7.根据权利要求6所述的防水性透明薄膜,其中,上述聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯。
8.一种显示器,其具备权利要求1或权利要求5所述的防水性透明薄膜。
9.一种光学调整薄膜,其是使多层薄膜贴合而成的层叠薄膜,外层使用权利要求1或权利要求5所述的防水性透明薄膜而成。
10.一种防水性透明薄膜的制造方法,其中,
具有对于基材表面之中的至少一区域实施防水处理的工序,
上述防水处理工序含有通过等离子体处理而将碳、氟和氧埋设于上述区域的表层部的工序,
在由X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上,上述氟原子含量在上述表面显示最大值,随着上述深度的增加而递减,
其中,由X射线光电子能谱法测定的氟原子相对于上述表层部的表面的碳原子、氟原子、氧原子和氮原子的合计的含有比为15%以上,
C1s窄带谱被分离成
(C-C,C-H)、
C-O、
(O-C=O,CHF)、
CFx(x=1~2)和
CFx(x=2~3)这5种峰,
由CFx(x=1~2)和CFx(x=2~3)的峰得到的CFx的结合状态的存在量相对于由上述5种峰得到的C全体的结合状态的存在量的比为8%以上。
11.根据权利要求10所述的防水性透明薄膜的制造方法,其中,上述埋设工序包含将上述基材卷绕在一对辊上的工序,和通过上述一对辊间的放电而使等离子体发生的工序。
12.根据权利要求11所述的防水性透明薄膜的制造方法,其中,使上述一对辊的电位的极性交替颠倒而进行上述放电。
13.根据权利要求12所述的防水性透明薄膜的制造方法,其中,在上述等离子体发生工序中,利用上述一对辊的内部所包含的磁场发生机构,使磁场在上述一对辊的表面上形成。
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