[发明专利]终端定位方法及装置有效

专利信息
申请号: 201811346262.8 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN111246386B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 李军 申请(专利权)人: 中国移动通信集团河南有限公司;中国移动通信集团有限公司
主分类号: H04W4/029 分类号: H04W4/029;H04W4/02;H04W4/021;H04W24/10;H04W64/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;李相雨
地址: 450008*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 终端 定位 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种终端定位方法,其特征在于,所述方法包括:

获取待测的终端的原始测量报告数据,所述原始测量报告数据中包括至少两个第一轨迹点的轨迹数据;

根据所述轨迹数据,从所述第一轨迹点中筛选满足预设可信度概率要求的第二轨迹点,并根据所述第二轨迹点的轨迹数据确定所述终端移动趋势方向;

根据预设轨迹拟合函数,依次确定非第二轨迹点在所述移动趋势方向上的参考点,所述参考点为所述非第二轨迹点修正后的参考点;

选择距离所述参考点在一预设距离范围内且在所述移动趋势方向上的点作为所述非第二轨迹点的目标轨迹点,所述目标轨迹点为所述终端的定位点。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取待测的终端的原始测量报告数据的步骤,包括:

获取待测的终端的原始测量报告数据,所述原始测量报告数据中包括至少两个原始轨迹点的轨迹数据,所述轨迹数据至少包括时间戳;

根据所述时间戳,从所述原始轨迹点中筛选至少两个第一轨迹点,建立所述终端的第一轨迹点集合。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述时间戳,从所述原始轨迹点中筛选至少两个第一轨迹点,建立所述终端的第一轨迹点集合的步骤,包括:

若根据所述时间戳,确定原始测量报告数据中包括所述原始轨迹点的至少两个邻区测量报告MR数据时,根据两个邻区MR数据以及预设的定位方法,确定所述原始轨迹点的对应的第一轨迹点;

根据所述时间戳,筛选相邻的点之间时间间隔满足预设间隔要求的所述第一轨迹点,建立所述终端的第一轨迹点集合。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述轨迹数据,从所述第一轨迹点中筛选满足预设可信度概率要求的第二轨迹点的步骤,包括:

根据所述轨迹数据,确定所述第一轨迹点的轨迹特征参数;

根据所述轨迹特征参数以及预设可信度计算公式,确定每个所述第一轨迹点的可信度概率;

筛选可信度概率满足预设可信度概率要求的所述第一轨迹点作为第二轨迹点。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述轨迹特征参数至少包括:所述第一轨迹点与在时间上相邻的前一个第一轨迹点之间的位移、时间差,所述前一个第一轨迹点的移动速度;

所述根据所述轨迹特征参数以及预设可信度计算公式,确定每个所述第一轨迹点的可信度概率的步骤,包括:

根据以下公式,确定每个所述第一轨迹点的可信度概率:

PD=sigmoid{1/(|DS-UV0*TDS|/Cn)};

其中,PD为所述可信度概率,DS为所述位移、TDS为所述时间差、UV0为所述移动速度,Cn为预设置信区间门限值。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第二轨迹点的轨迹数据确定所述终端移动趋势方向的步骤,包括:

对所述第二轨迹点进行预设取样得到第二轨迹点集合,根据所述第二轨迹点集合中的第二轨迹点的时间戳和位移,确定所述终端在所述第二轨迹点上的移动趋势方向。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述移动趋势方向以及预设轨迹拟合函数,依次对所述原始测量报告数据中的非第二轨迹点进行轨迹修正的步骤,包括:

根据预设轨迹拟合函数,依次确定所述非第二轨迹点在所述移动趋势方向上的参考点,所述参考点为所述非第二轨迹点修正后的参考点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国移动通信集团河南有限公司;中国移动通信集团有限公司,未经中国移动通信集团河南有限公司;中国移动通信集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811346262.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top