[发明专利]随机纹理防伪标识结构及制造方法在审
申请号: | 201811341412.6 | 申请日: | 2018-11-12 |
公开(公告)号: | CN109785734A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 孙显林 | 申请(专利权)人: | 北京柯斯元科技有限公司 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02;G09F3/03;G06K19/06 |
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地址: | 101102 北京市通州区马*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 随机纹理防伪标识 随机纹理 基材层 透明基体层 随机纹理图案 防伪可靠性 工艺制造 纹理 编码层 成品率 下表面 布撒 制造 | ||
1.一种随机纹理防伪标识结构,其特征在于,包括:
随机纹理基材层,其内部含有多个随机布撒的纹理体,用于提供随机纹理图案;
透明基体层,设置于所述随机纹理基材层上方;
编码层,设置于所述透明基体层的下表面,与所述随机纹理基材层相邻接并位于其上方。
2.根据权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述随机纹理基材层为透明材料层,多个所述纹理体随机布撒于该透明材料层内部,识别者能够在透明材料层外部拍摄得到清晰的随机纹理图案。
3.根据权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述纹理体为柱状体,其两端的端面为斜切面。
4.根据权利要求1或3所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述纹理体的上方印设有油墨层。
5.根据权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述编码层通过光刻成形设置于所述透明基体层的下表面。
6.根据权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述透明基体层覆盖于所述随机纹理基材层的全部或部分面积区域。
7.根据权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述透明基体层为透明胶片层。
8.一种随机纹理防伪标识结构,其特征在于,包括:
随机纹理基材层,其内部含有多个随机布撒的纹理体,用于提供随机纹理图案;
透明基体层,设置于所述随机纹理基材层上方;
编码层,设置于所述透明基体层的下表面,与所述随机纹理基材层相邻接并位于其上方;
遮光涂布层,设置于所述编码层下方,覆盖所述编码层下表面。
9.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述遮光涂布层为含有钛白粉的遮光涂料层。
10.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述编码层为黑色二维码,所述遮光涂布层为白色遮光涂料层。
11.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述随机纹理基材层为透明材料层,多个所述纹理体随机布撒于该透明材料层内部,识别者能够在透明材料层外部拍摄得到清晰的随机纹理图案。
12.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述纹理体为柱状体,其两端的端面为斜切面。
13.根据权利要求8或12所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述纹理体的上方印设有油墨层。
14.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述编码层通过光刻成形设置于所述透明基体层的下表面。
15.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述透明基体层覆盖于所述随机纹理层的全部或部分面积区域。
16.根据权利要求8所述的随机纹理防伪标识结构,其特征在于,所述透明基体层为透明胶片层。
17.一种制造权利要求1所述的随机纹理防伪标识结构的制造方法,其特征在于,包括:
步骤S1,成型所述随机纹理基材层,使其内部包含多个所述随机分布的纹理体,用以提供随机纹理图案;
步骤S2,在所述透明基体层下表面设置所述编码层;
步骤S3,将设置有所述编码层的所述透明基体层设置于所述随机纹理基材层上。
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