[发明专利]一种静电纺丝牙釉质再矿化贴膜的制备方法

权利要求书

1.一种静电纺丝牙釉质再矿化贴膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

（1）在40℃~90℃，按照明胶与冰乙酸的质量体积比g:mL为1~50:100的比例，将明胶溶于冰乙酸中，搅拌使其充分溶解；

（2）将氨基酸改性纳米羟基磷灰石加入步骤（1）所得明胶溶液中，磁力搅拌6~12h，最后超声分散1~3h，然后进行负压脱泡处理得到纺丝液；

（3）取步骤（2）所得纺丝液进行静电纺丝得到纺丝纤维，将纺丝纤维采用交联剂进行交联，得到牙釉质再矿化贴膜；

步骤（2）所述的改性纳米羟基磷灰石为：采用氨基酸进行复合改性得到的纳米羟基磷灰石，所述氨基酸为甘氨酸、谷氨酸、天冬氨酸、丝氨酸中的一种；

步骤（2）所述氨基酸改性纳米羟基磷灰石的质量百分比为0.1%~50%，明胶的质量百分比为50%~99.9%；

步骤（2）所述负压脱泡的条件为：在400~760mm汞柱的负压下脱泡10~20h；

步骤（3）所述静电纺丝条件为：所用针头为17~20号，纺丝液的推进速度为0.1~0.2mm/min，正电压为16~20KV，负电压为-3.5KV，针头与接收装置的距离为10~30cm；

步骤（4）所述的交联剂为：1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐和N-羟基琥珀酰亚胺的混合物、戊二醛、京尼平或者谷氨酰胺转胺酶。