[发明专利]一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统

权利要求书

1.一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，包括：孔径光阑、主镜(1)、次镜(2)、三镜(4)、四镜(5)、五镜(6)和平面反射镜(3)，光线依次经过主镜(1)、次镜(2)、平面反射镜(3)、三镜(4)、四镜(5)、五镜(6)成像于像面(7)；

所述孔径光阑位于主镜(1)上；

所述主镜(1)相对于入射到主镜(1)上的光线所在的光轴倾斜；

所述平面反射镜(3)、三镜(4)、四镜(5)和五镜(6)均位于主镜(1)后方；

所述主镜(1)为二次曲面；

所述次镜(2)、三镜(4)、四镜(5)、五镜(6)均为高次球面；

所述主镜(1)和次镜(2)组成凹面反射镜组；

所述主镜(1)是将卡式系统中的主镜去掉上半部分，保留下部分的通光区域而形成的；

所述次镜(2)、三镜(4)、四镜(5)、五镜(6)均有一定程度的偏置和倾斜。

2.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述主镜(1)为二次项系数为-2～0的圆锥曲面。

3.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述主镜(1)、次镜(2)、三镜(4)、四镜(5)和五镜(6)的二次项系数分别为-1.19、-21.09、3.43、-2.65、-12.35。

4.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述主镜(1)、次镜(2)、平面反射镜(3)、三镜(4)、四镜(5)和五镜(6)的反射面均镀有高反射率反射膜。

5.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述平面反射镜(3)位于次镜(2)和三镜(4)之间，通过平面反射镜(3)将光轴转折65度，实现光路压缩。

6.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述像面(7)相对于入射到像面(7)上的光线所在的光轴倾斜。

7.根据权利要求1所述的一种轻小型大视场低畸变的类同轴五反光学系统，其特征在于，所述像面(7)为线阵CCD或COMS。